RCD8半自动涂胶/显影机
（RCD8 Semi-Auto Coater and Developer）
主要用途/ Application：
8寸及以下光刻胶旋涂和喷射式显影，支持背洗和去厚胶边功能。
Spin Coating and developer dispense for 8-inch and below, EBR and Backside rinse
设备工作原理简介/ Operating principle：
涂胶机的工作原理是将光刻胶通过旋涂的方式均匀地涂布在基底上。显影是将曝光后的硅片放入显影机中，使用显影液处理，以去除曝光或未曝光的光阻。
The photoresist is uniformly applied to the substrate by spin coating. Developing is the process of placing the exposed wafer in a developer and treating it with a developer solution to remove the exposed or unexposed photoresist.
工艺能力/ Capability：
电机精度：3000rpm ±1转
Accuracy：3000rpm ±1 RPM
技术指标/ Specifications：
电机精度：3000rpm ±1转
Accuracy：3000rpm ±1 RPM
设备类别/Facilities：光刻辅助设备/Lithography Misc
设备编号/No.：ELT3RCD81
设备地点/Location：东区光刻ⅢA区/ East Lithography IIIA Area
工艺工程师/Engineer in response:
姓名：王凤丹；邮箱：fdwang@sjtu.edu.cn；电话：021-34206126-6005
Name: Fengdan Wang；Email：fdwang@sjtu.edu.cn; Tel: 021-34206126-6005.
设备照片/Photos：
