型号：GL8 CLIV
功能：用于紫外纳米压印工艺过程，可实现高精度纳米结构复制，包含工作模具和高精度纳米结构复制的紫外纳米压印功能。
型号：EBPG 5200
功能：8英寸及以下基片纳米级结构直写光刻
型号：3030EX6
功能：180 nm半导体工艺节点光刻工艺
型号：MA8/BA8
功能：800nm~微米级微纳结构与器件图形光刻
型号：MA/BA6
功能：1. 微纳结构与器件图形光刻； 2. 双面对准光刻。
型号：MA6/BA6
功能：1. 基片：硅，玻璃等； 2. 微纳结构与器件图形光刻； 3. 双面对准光刻。
