| 型号： | GL8 CLIV |
|---|---|
| 功能： | 用于紫外纳米压印工艺过程，可实现高精度纳米结构复制，包含工作模具和高精度纳米结构复制的紫外纳米压印功能。 |
| 工程师： | 徐老师 / (021) 34206126-6030 / lipingxu@1 |
| 设备地点： | 东区光刻ⅢA区 |
| 设备编号： | ELT3NIL01 |
用于紫外纳米压印工艺过程，可实现高精度纳米结构复制，包含工作模具复制和高精度纳米结构紫外纳米压印功能。设备可实现全自动工作模具复制，全自动纳米压印及脱模过程。
1、压印精度：≤50 nm；
2、结构转印精度：压印结构与原始模具对比≤±5%；
3、残余层厚度及均匀性：残余层厚度≤20 nm，均匀性≤±10 nm ；
4、压印结构深宽比：≥7.5:1；
5、模具基底对位精度：≤±5 μm；
1、采用高精度辊压系统作为压印动力，在高精度辊轮滚动过程中，实现母版晶圆与工作模具或工作模具与基底晶圆的压印贴合；
2、设备可实现全自动工作模具复制，全自动纳米压印及脱模过程；
3、压印参数控制范围：压印力量：10000-500000Pa；压印速度：0.1-50mm/sec，曝光时间：0-3600sec；
4、基底尺寸：兼容2inch、100mm、150mm 和200mm 圆形基底，厚度0.3mm-1mm；
5、UV 曝光固化单元：365nm LED面光源，光强≥1000mW/cm2，光强连续可调； 6、曝光均匀性：300 -1000mW/cm2范围内不低于90%；
纳米压印技术通过模具和压印胶的直接接触将纳米尺寸的图形转移到涂有压印胶的晶圆上，使用紫外光或者高温将压印胶固化后进行脱模。此纳米压印系统采用高精度辊压系统作为压印动力，在高精度辊轮滚动过程中，实现母版晶圆与工作模具或工作模具与基底晶圆的压印贴合，设备主要用于紫外纳米压印工艺过程，可实现高精度纳米结构复制，可实现全自动工作模具复制，全自动纳米压印及脱模过程。
1、母模须做抗黏处理；
2、基底压印前需做O2 plasma处理，否则存在脱胶风险。
3、基底压印前务必清洗，保证基地干净无颗粒污染，否则每个颗粒污染都会导致图形缺陷。
