7月
19
周二
2022
第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用 @ 腾讯会议
7月 19 @ 01:31 – 02:31

【讲座主题】第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用

【讲座时间】2022年7月19日(周二) 19:00-20:30

【报告人】金琦(美国升纳科技公司,总经理)

【讲座内容】离子束溅射(IBS)是目前最先进的薄膜沉积技术之一,在精密光学,数据存储,光刻掩膜等高端需求方面被广泛的应用。本讲座将介绍离子束溅射的基本原理,详细对比其他薄膜沉积技术的优缺点,并通过典型应用案例,展示离子束溅射的优势。

(扫码入会)

腾讯会议号: 780-3798-6336

会议密码:2022

【致谢】

本期讲座为本次微纳技术系列讲座的最后一讲,感谢您的持续关注!