2014年9月16日，由上海交通大学AEMD平台与德国Suss公司联合举办的接近接触式光刻、键合、纳米压印研讨会在上海交大电信学院3-208会议室顺利举行。

本次研讨会由德国Suss公司的龚里博士围绕接近接触式光刻机技术介绍及其应用、晶圆键合技术及其应用、新型纳米压印技术的应用为我们作了非常精彩的报告。报告吸引了来自上海超导、交大电院、物理系、材料学院、密西根学院等单位的40余名参会人员。