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首页 > 平台设备 > 微纳加工 > 湿法清洗与刻蚀(含CMP)
微纳加工
  • CMOS级介质刻蚀清洗台预约

    型号：定制

    状态：运行

    功能：可以用于8~6寸以及4~3寸晶圆的介质刻蚀清洗， 槽体可以进行5片硅片清洗， 可以通过磷酸槽，SPM槽 以及DHF等溶液试剂进行介质湿法刻蚀清洗

    东区无机湿法Ⅲ区(金属严控)(021) 34206126-6015
  • CMOS级RCA清洗台预约

    型号：定制

    状态：运行

    功能：该设备配置2套不同尺寸的槽体，可以用于8~6寸以及4~3寸两种类型的晶圆的无机RCA清洗， 槽体最多可以进行5片硅片的工艺处理， 可以通过SC1，SC2, SPM 以及DHF等溶液试剂进行RCA清洗的各个工艺步骤

    东区无机湿法Ⅲ区(金属严控)(021) 34206126-6015
  • CMOS级多功能清洗台预约

    型号：定制

    状态：运行

    功能：该设备可以用于小样品通过小型烧杯培养皿等器皿的自主灵活清洗，可以通过使用各种无机类化学试剂，灵活实现各类清洗工艺

    东区无机湿法Ⅲ区(金属严控)(021) 34206126-6015
  • 通用有机清洗台预约

    型号：定制

    状态：运行

    功能：该设备可以用于小样品通过小型烧杯培养皿等器皿的自主灵活清洗，设备配备桌面型超声台，可以通过丙酮，异丙醇 ，PRS3000等试剂进行灵活的剥离，去胶等工艺

    东区有机湿法II区(021) 34206126-6015
  • 有机去胶剥离清洗台预约

    型号：定制

    状态：运行

    功能：设备配置2套不同尺寸的槽体，通过丙酮，异丙醇 ，PRS3000等试剂进行剥离，去胶等工艺。

    东区有机湿法II区(021) 34206126-6015
  • 多功能操作台1（需要使用槽体水浴加热功能时预约）预约

    型号：湿法定制操作台

    状态：运行

    功能：1. 设备配备一个不锈钢超声槽（300mm*300mm)，可以实现样品的水浴加热以及超声功能；
    2. 对基片及表面材料无特别限制；
    3.设备可以外接加热，超声等小型桌面设备， 实现灵活工艺，
    4：可做小片与破片工艺。

    西区无机湿法II区(021) 34206126-6015
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