服务的大型仪器设备共享平台
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为深入学习贯彻习近平总书记关于安全生产重要论述及重要指示批示精神,落实《高等学校实验室安全分级分类管理办法》,进一步营造良好实验室安全文化氛围、增加平台师生实验室安全素养、提升本质安全水平,AEMD平台于近期相继开展应急疏散演习与红十字救护员专业培训,通过“预防+救援”双轮驱动,拧紧实验室“安全阀”,提升实验室安全工作的专业性与规范性。
为保障科研项目顺利实施,确保关键设备按计划交付使用,2025年7月1日,AEMD平台多名老师开展临时键合设备的搬运与初步部署工作。面对设备体积大、洁净要求高、路径复杂等现实挑战,平台加班奋战至深夜,最终顺利完成了该设备从中转区域到目标洁净室的搬运、定位与初步固定,为后续调试和投入运行打下了坚实基础。
为进一步加强平台人员对集成电路制造前沿技术的理解,持续推动专业能力提升,2025年6月24日中午,AEMD平台在E谷训练营组织开展“强基·提效·创未来——2025年度AEMD平台内部人员综合能力进阶系列沙龙”第五讲。
加工设备覆盖光刻(电子束/KrF深紫外/双面光刻)、薄膜沉积(磁控溅射/电子束蒸发/LPCVD)、刻蚀(深硅/离子束/湿法刻蚀)等核心工艺,并配备晶圆键合、激光切割(dicing)、引线键合(WB)及铜镍电镀系统,辅以离子注入、氧化扩散、CMP抛光等设备,形成从纳米级图形加工到晶圆级封装的全流程能力,支持硅基、玻璃、III-V族化合物及有机材料微纳器件制造。
封装工艺覆盖晶圆键合(支持阳极、共晶、热压键合等)、大压力芯片键合机(支持焊球直径40-450μm)、砂轮切片与半导体材料减薄(陶瓷/硅片/金属)、微组装贴片及倒装芯片键合、金线/铝线引线键合等核心环节,同时兼容3D IC封装、光电芯片耦合等特殊工艺。
表征与测试设备可实现在线/离线加工工艺的监控及表征,以及光/电性能表征。主要包含表面形貌量测(AFM、SEM、激光共聚焦显微镜等),薄膜厚度量测(椭偏仪、紫外干涉膜厚仪、台阶仪等),薄膜性能表征(紫外可见分光光度计、薄膜应力仪、高分辨X射线衍射仪、四探针薄膜电阻测量仪、电化学CV掺杂浓度测量仪、表面缺陷分析仪等),及器件与芯片电/光性能测量(半导体参数分析仪、霍尔效应仪、光电测试系统等)。
近日,集成电路学院刘景全团队李秀妍副教授及合作者在国际知名学术期刊《Nature Communications》上发表了题为“Hidden structural phase transition assisted ferroelectric domain orientation engineering in Hf0.5Zr0.5O2 films”(新型相变路径辅助的氧化铪锆铁电薄膜畴取向调控)的最新研究成果。该研究首次揭示了一种氧化铪基铁电材料从反铁电四方相到铁电正交相的潜在相变路径,为多晶氧化铪基薄膜中铁电畴取向的调控提供了新的思路。
近日,上海交通大学电子信息与电气工程学院微米纳米加工技术全国重点实验室刘景全团队在面向单神经元的多功能脑机接口器件领域取得新进展,相关成果以“An opto-electrophysiology neural probe with photoelectric artifact-free for advanced single-neuron analysis”(一种用于先进单神经元分析的无光电伪影的光电生理神经探针)为题在国际著名期刊《ACS Nano》上发表。
近日,电子信息与电气工程学院刘景全团队、苏跃增团队和上海交通大学附属第六人民医院刘珅主任合作,在植入式MEMS器件的炎症抑制领域取得重要进展,相关成果以“Stimulation of Sympathetic Nerve Using Ultraflexible Cuff Electrodes Inhibits Inflammation Caused by Tendon Rupture”(超薄柔性卡夫电极刺激交感神经抑制肌腱断裂引起的炎症)为题在国际著名期刊《Advanced Functional Materials》上发表。
研究采用原子层沉积(ALD)工艺在硅衬底上生长了35 nm以下不同厚度的超薄氮化铝(AlN)晶态薄膜。利用椭圆偏振光谱法在275 nm~900 nm波长范围内测量并拟合薄膜的厚度及折射率、消光系数等光学参数。利用原子力显微镜(AFM)表征AlN晶粒尺寸随生长循环数的变化,并计算得到薄膜表面粗糙度用于辅助椭偏模型拟合。针对ALD工艺特点建立合适的椭偏模型,可获得AlN超薄膜的生长速率为0.535 Å/cycle,ALN超薄膜的折射率随着生长循环数的增加而增大并逐渐趋于稳定,薄膜厚度为6.88 nm时其折射率为1.6535,薄膜厚度为33.01 nm时其折射率为1.8731。该模型为超薄介质薄膜提供了稳定、可靠的椭偏法表征。
AEMD平台充分发挥交大人“求真务实、努力拼搏、敢为人先、与日俱进”的精神,不断产出国内外基础性、前瞻性、特色性的原创成果,努力建设成为能够实现重大突破的开放性科研平台,为加快实现我国高水平科技自立自强贡献更大的力量。平台员工累积申请及授权发明专利14余项,先后应邀在微纳制造领域会议发表大会主题报告及特邀报告20余次,在微纳加工领域的基础研究及应用开发方面取得了突出的研究成果,受到了国内外同行的广泛关注,AEMD平台已初步发展成为该领域具有领先优势的关键元器件制造技术研究与开发的平台。
根据AEMD平台的数据,自成立以来,已经支撑用户发表了超过300篇学术论文,申请了多项专利,有力推动了微纳加工技术的学术与产业进步。