【AEMD平台微纳技术系列讲座】第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用

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2022-07-19

【AEMD平台微纳技术系列讲座】

第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用

--AEMD平台微纳技术系列讲座

【讲座主题】第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用【讲座时间】2022年7月19日(周二) 19:00-20:30 【报告人】金琦（美国升纳科技公司，总经理） 【讲座内容】离子束溅射（IBS）是目前最先进的薄膜沉积技术之一，在精密光学，数据存储，光刻掩膜等高端需求方面被广泛的应用。本讲座将介绍离子束溅射的基本原理，详细对比其他薄膜沉积技术的优缺点，并通过典型应用案例，展示离子束溅射的优势。

（扫码入会）

腾讯会议号： 780-3798-6336

会议密码：2022

【致谢】

本期讲座为本次微纳技术系列讲座的最后一讲，感谢您的持续关注！

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