【讲座主题】第十九讲 | 激光诱导玻璃通孔刻蚀系统原理与应用 【讲座时间】2023年5月31日(周三) 09:15-11:15 【讲座地址】微电子大楼306会议室 【报告人】王宪龙（乐普科（天津）光电有限公司，战略发展与新产品业务开发总监） 【讲座内容】主要介绍激光诱导深度刻蚀工艺在半导体领域的应用以及最新研发成果，特别是涉及TGV、BGV的最新算法、超高频（高于150GHZ）封装应用，玻璃基封装的高密封性、导热性以及可靠性研究等。
【讲座主题】第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用 【讲座时间】2022年7月19日(周二) 19:00-20:30 【报告人】金琦（美国升纳科技公司，总经理） 【讲座内容】离子束溅射（IBS）是目前最先进的薄膜沉积技术之一，在精密光学，数据存储，光刻掩膜等高端需求方面被广泛的应用。本讲座将介绍离子束溅射的基本原理，详细对比其他薄膜沉积技术的优缺点，并通过典型应用案例，展示离子束溅射的优势。 （扫码入会） 腾讯会议号： 780-3798-6336 会议密码：2022 【致谢】 本期讲座为本次微纳技术系列讲座的最后一讲，感谢您的持续关注！
【讲座主题】第十七讲 | 显微技术在新一代半导体行业解决方案 【讲座时间】2022年7月15日(周五) 19:00-20:30 【报告人】杨瑞（卡尔蔡司（上海）管理有限公司，高级电镜应用工程师） 【讲座内容】新一代半导体材料的研发是目前半导体行业的发展热点，为了解决新一代半导体材料的研究需求，蔡司将显微镜产品进行全方位整合，提供了一套完整的解决方案，结合光镜、电镜及X射线显微镜，满足从二维到三维，厘米到纳米尺度的各类表征分析需求。 （扫码入会） 腾讯会议号： 780-3798-6336 会议密码：2022 【讲座预告】 7月19日 第十八讲 | Ion Beam Sputtering for Thin Film Deposition（19:00~20:30）
【讲座主题】第十六讲 | 扫描电镜成像技术及最新技术进展分享 【讲座时间】2022年7月12日(周二) 19:00-20:30 【报告人】张芳（卡尔蔡司（上海）管理有限公司，区域电镜应用主管） 【讲座内容】您在使用扫描电镜的时候，是否有过以下疑问：众多探头如何选择？导电性差的样品如何拍出漂亮的结果？6寸或8寸玻璃基底的光刻胶样品如何不破片、不喷镀处理拍摄？SEM也能观察位错？ECCI是什么原理？扫描电镜如何助力热点研究领域分析，如锂电领域、半导体领域？扫描电镜可以搭配哪些分析附件？扫描电镜中越来越热门的原位实验有哪些？ （扫码入会） 腾讯会议号： 780-3798-6336 会议密码：2022 【讲座预告】 7月15日 第十七讲 | 显微技术在新一代半导体行业解决方案（19:00~20:30） 7月19日 第十八讲 | Ion Beam Sputtering for Thin Film Deposition（19:00~20:30）
【讲座主题】第十五讲 | SEM与SEM base Nanoprober在半导体器件中的应用及制样方法 【讲座时间】2022年7月8日(周五) 19:00-20:30 【报告人】周鸥（日立科学仪器（北京）有限公司，半导体行业专门部长） 【讲座内容】本讲座围绕电子显微镜如何获取形貌、成分、电位等多种信息的基本原理，结合日立电子显微镜的独特设计给出解决方案，并介绍基于SEM的专用纳米探针系统在电性测量和失效点定位方面的应用，以及离子研磨在样品制备中所能解决的问题。 （扫码入会） 腾讯会议号： 780-3798-6336 会议密码：2022 【讲座预告】 7月12日 第十六讲 | 扫描电镜成像技术及最新技术进展分享（19:00~20:30） 7月15日 第十七讲 | 显微技术在新一代半导体行业解决方案（19:00~20:30）
【讲座主题】第十四讲 | 微纳加工中的电镀工艺及应用实例 【讲座时间】2022年7月5日(周二) 19:00-20:30 【报告人】惠宇平（苏斯贸易（上海）有限公司，售后支持和应用总监） 【讲座内容】电镀工艺在集成电路制造中有着广泛的应用，尤其是在芯片封装和MEMS器件制造中的LIGA，advanced packaging，和TSV深孔加工等。讲座探讨多种金属电镀的工艺原理，介绍电镀在微纳加工中的应用，重点讲述镍铁合金工艺和铜TSV工艺。 （扫码入会） 腾讯会议号： 780-3798-6336 会议密码：2022 【讲座预告】 7月8日 第十五讲 | SEM与SEM base Nanoprober在半导体器件中的应用及制样方法（19:00~20:30）
【讲座主题】第十三讲 | 晶圆健合技术介绍 【讲座时间】2022年7月1日(周五) 19:00-20:30 【报告人】Dr. Viorel Dragoi（Chief Scientist for permanent wafer bonding, the head of the Technology Development team at EV Group headquarters） 【讲座内容】1. An introduction of the wafer bonding processes and their principles. 2. A basic…
【讲座主题】第十二讲 | FIB在材料以及器件等领域的应用 【讲座时间】2022年6月28日(周二) 19:00-20:30 【报告人】邱婷婷（卡尔蔡司显微镜事业部，高级应用工程师） 【讲座内容】1.FIB的基础介绍；2.FIB在材料/器件分子中的应用，包括：截面分析、TEM制样、三维重构等；3.FIB特色的微纳加工能力在微电子、光电等领域中的应用。 （扫码入会） 腾讯会议号： 780-3798-6336 会议密码：2022 【讲座预告】 7月1日 第十三讲 | 晶圆健合技术介绍（19:00~20:30）
【讲座主题】第十一讲 | 关于EBL曝光质量和速度的讨论 【讲座时间】2022年6月24日(周五) 14:00-15:30 【报告人】朱国（Raith公司，副总经理） 【讲座内容】电子束光刻系统是产生聚焦电子束和控制电子束按照设计的版图直写的设备。电子束光刻以其分辨率高、性能稳定，成本相对较低的特点，因而成为人们最为关注的下一代光刻技术之一。电子束光刻系统的重要参数包括如电子束能量、束电流、束直径、写场大小、图型发生器速度、拼接或套刻精度等。讲座将探讨这些主要参数和它们之间的相互作用以及如何针对特定应用进行优化。 （扫码入会） 腾讯会议号： 780-3798-6336 会议密码：2022 【讲座预告】 6月28日 第十二讲 | FIB在材料以及器件等领域的应用（19:00~20:30）
【讲座主题】第十讲 | 基于热扫描探针技术的先进2D&3D纳米器件的制备与应用 【讲座时间】2022年6月21日(周二) 19:00-20:30 【报告人】吴争鸣博士（海德堡Nano，销售工程师） 【讲座内容】热扫描探针光刻技术利用可加热的10纳米尺度针尖来直接挥发热敏胶刻写纳米结构,并同时获取写好的纳米结构的实时成像。讲座将结合Science、Nature、Advanced Materials等最新发表文献,介绍热扫描探针技术的广应用案例。充分证明了该技术在制备新型2D&3D超高分辨率纳米器件和改善现有器件性能的独特能力。 （扫码入会） 腾讯会议号： 780-3798-6336 会议密码：2022 【讲座预告】 6月24日 第十一讲 | 关于EBL曝光质量和速度的讨论（14:00~15:30）
