【讲座主题】第五讲 | XeF2/VHF干法硅/氧化硅刻蚀技术与应用实例 (Vapor Release Etching)

【讲座时间】2022年6月2日(周四) 19:00-20:30

【报告人】Mr Willis Choi (Acting Sales Manger, Laserwort)

【讲座内容】①VHF basic principles; ②Process capabilities; ③Optimizing the process for a new device; ④XeF2 vapor release etch introduction; ⑤Overview of XeF2 technology; ⑥Techniques for ultrathin film devices, ALD and 2D films.

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腾讯会议号：780-3798-6336

会议密码：2022

【讲座预告】

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