关于AEMD平台二、三期新设备上线的通知

——化学辅助离子束刻蚀系统（CAIBE）

尊敬的各位用户老师、同学：

为了进一步满足广大师生的科研需求，AEMD平台新上线二、三期设备：化学辅助离子束刻蚀系统（CAIBE）（设备编号：EFM4CRB01）。即日起，各位用户可通过AEMD实验室设备预约管理系统进行预约使用，特此公告。

 

化学辅助离子束刻蚀系统（CAIBE）（EFM4CRB01）

主要用途

刻蚀Cu、Ti、Cr、SiO2、Si、LiNbO₃ 等各种金属或介质材料，也可以用于刻蚀倾斜锯齿光栅等微纳结构的器件。

 

工艺能力

1.配有氮、氧、氩等常规气体，同时配有氟基、氯基共12路气体；

2.工件台倾斜角可调范围0-170度；

3.背氦冷温度0-80摄氏度，满足带光刻胶刻蚀；

4.具备终点检测功能。

 

技术指标

1.满足8英寸及6、4、3英寸的硅片刻蚀能力；

2.二氧化硅刻蚀速率大于20nm/min；

3.铜刻蚀速率大于15nm/min。

 

典型使用案例：

工件台倾斜135度，屏栅+加速栅能量=1100eV刻蚀出的倾斜锯齿光栅，周期约600nm，深1um。

 

设备详细介绍查看路径：AEMD官网-平台设备-干法刻蚀设备

AEMD官网网址：https://aemd.sjtu.edu.cn/

AEMD实验室设备预约管理系统访问网址：https://aemd-lims.sjtu.edu.cn/

 

感谢您对AEMD平台的关注！

先进电子材料与器件（AEMD）平台

2025年7月16日