关于AEMD平台二、三期新设备上线的通知-光刻辅助设备
尊敬的各位用户老师、同学：
为了进一步满足广大师生的科研需求，AEMD平台新上线二、三期设备：
HMDS烘箱（设备编号：EDD2HMD01）、
半自动热板（设备编号：EDD2HPS01、EDD2HPS02）、
半自动涂胶机（设备编号：EDD2SMS01）、
半自动显影机设备（设备编号：EDD2SMD01）。
即日起，各位用户可通过AEMD实验室设备预约管理系统进行预约使用，特此公告。
设备主要用途简介：
- HMDS烘箱（EDD2HMD01）
HMDS Oven 是一种专用于基材表面处理的设备，主要用于提高光刻胶在基材表面的附着力。其核心功能是通过气相沉积的方式将六甲基二硅氮烷（HMDS）分子吸附到基材表面，形成一层亲有机的界面。适用的用途包括：
- 光刻前基材表面处理：提高硅、玻璃、氧化硅等材料表面对光刻胶的附着力，减少图案剥落。
- 改善工艺可靠性：尤其适用于微电子、MEMS 和光电器件的制造工艺中对高附着力的要求。
- 处理各种基材：如晶圆、玻璃片或其他需要增强附着性能的基材表面处理。
- HP-200半自动热板（EDD2HPS01、EDD2HPS02）
HP-200是一款高精度热板设备，专为实验室和小规模生产设计，用于各种涂覆和光刻工艺中的热处理环节。其主要用途包括：
- 光刻胶预烘和后烘：在涂覆光刻胶后的软烘和曝光后的硬烘，以增强图案稳定性和光刻性能。
- 退火处理：用于半导体器件和薄膜的热处理以优化材料特性。
- 加热均匀性需求：针对敏感基材的精确温度控制和均匀加热，适用于微电子、MEMS 和光电子器件。
3.SM-200半自动涂胶机（EDD2SMS01））
SM-200是一款高精度的旋涂设备，主要用于半导体制造、微电子器件、光学元件及实验室研究中薄膜涂覆工艺的应用。它能够均匀地将光刻胶、保护膜、功能性涂层材料涂覆在晶圆、玻璃、金属或陶瓷基材上，广泛应用于光刻加工、保护涂层制备、抗反射涂层等领域。
4.SMD-200半自动显影机（EDD2SMD01）
SMD-200是一款高性能的均匀涂布设备，专门设计用于实验室和小批量生产环境中的薄膜涂覆工艺。该设备广泛应用于以下领域：
- 光刻工艺：用于在半导体晶圆、玻璃或其他基材上均匀涂覆光刻胶。
- 保护涂层：为电子元件提供抗腐蚀或抗氧化的保护涂层。
- 功能涂层：应用于微电子、光学元件和生物医学领域的功能性薄膜沉积。
设备类别：光刻辅助设备；
设备地点：东区显影Ⅱ区。
工艺工程师：张老师，邮箱：captianzhangdi@sjtu.edu.cn，电话：13651735947
设备详细介绍查看链接：AEMD官网-平台设备-光刻辅助设备
AEMD官网网址：https://aemd.sjtu.edu.cn/
AEMD实验室设备预约管理系统访问网址：https://aemd-lims.sjtu.edu.cn/
感谢您对AEMD平台的关注！
先进电子材料与器件（AEMD）平台
2025年4月29日