关于AEMD平台双光子三维微纳打印系统初期优惠的通知

 

尊敬的各位用户老师、同学：

为了满足学校广大师生的科研需求，AEMD平台新购置的双光子三维微纳打印系统（MPO100）（设备编号：ELT3MPO01 ）已完成安装调试，并已开放运行；平台决定在该设备运行初期，实行优惠推广价格，即实行最新收费标准的五折。欢迎广大用户师生前来咨询使用！

 

双光子三维微纳打印系统设备介绍：

主要用途：

拥有一个强大的飞秒激光光源522nm，能够高效、高速的打印SU8, AZ胶、ma-P100胶以及金属层和ORMOCER有机-无机混合胶；制作高度超过1毫米的宏观结构;制备具有优异表面质量粗糙度低至10 nm的微结构;最小特征尺寸低至100nm，扫描速度超过1000mm/s，定制的3D纳米、微米和宏观结构制造工艺让用户能够充分的利用各项工艺，并能够在单个工艺步骤中以高吞吐量生产复杂的微结构。可用于微光学、光电子学、微机械学、生物医学工程、量子器件等领域。

 

设备工作原理简介：

MPO 100是一种用于3D光刻和3D微打印的双光子聚合(TPP)系统，使用双光子聚合技术使光刻胶或者金属材料结构化。该系统具有高精度的3D光刻和高打印量的3D微打印，支持高分辨率的增材和减材制造。增材制造是一层一层的精确构建，而减材制造则是高精度地去除材料，以制造复杂的功能微结构。

 

工艺能力：

1. 飞秒激光器：波长λ＝522±3nm
2. 打印高度：≥1 mm;
3. 表面粗糙度：≤10 nm;
4. 分辨率：≤100 nm（横向）；
5. 套刻精度≤1.5 um；
6. 打印面积：100 x 100 mm²；
7. 扫描速度：10m/s除以放大率（10x写入模块: 不小于1000mm/s）；
8. 材料（增材或减材）：ORMOCER®s, SU-8, AZ-series, ma-P 1200, 金属 (e.g. Ag, Au, Cr, …)；
9. 加工模式：无拼接制造(Stitching-Free)，同步振镜扫描仪和工作台（无限视场，IFoV）以实现无拼接制造；
10. 扫描策略：全体积扫描逐层曝光整个结构和轮廓扫描。

 

典型使用案例：

可用于微光学、光电子学、微机械学、生物医学工程、量子器件等领域:

(以上SEM照片均来源于Heidelberg公司三维微光刻成果展示，作为本双光子三维微纳打印系统的应用举例)

 

设备类别：光刻/图形化设备；

设备编号：ELT3MPO01；

设备地点：东区光刻ⅢA区。

工艺工程师：

姓名：徐老师；邮箱：lipingxu@sjtu.edu.cn；电话：021-34206126-6030

 

请注意：预约系统当前显示的价格，即为该设备五折优惠后的价格；优惠结束日期另行通知。

设备详细介绍查看链接：AEMD官网-平台设备-光刻/图形化设备-双光子三维微纳打印系统

AEMD官网网址：https://aemd.sjtu.edu.cn/

AEMD实验室设备预约管理系统访问网址：https://aemd-lims.sjtu.edu.cn/

感谢您对AEMD平台的关注！

 

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2025年4月24日