关于AEMD平台深紫外步进光刻机设备初期优惠的通知

尊敬的各位用户老师、同学：

为了满足校内外用户的科研需求，AEMD平台新购置的深紫外步进光刻机(设备编号：ELT2DUV01)已完成设备安装及工艺调试，并已开放运行；平台决定在该设备运行初期，实行优惠推广价格，即实行最新收费标准的三五折。欢迎广大用户师生前来咨询使用！

 

深紫外步进光刻机设备介绍：

主要用途：

0.18 um工艺节点光刻

 

设备工作原理简介：

DUV stepper采用248nm准分子激光作为光源，工艺节点在180nm水平，采用了步进扫描投影式光刻，光源通过掩模，经光学镜头调整和补偿后，以步进重复的方式在硅片上实现曝光，精度高且曝光速度极快。

 

工艺能力：

1. WPH:120~130片wafer
2. 曝光光源: 248nm KrF
3. 加工晶圆尺寸: 6/8 inch（其他尺寸请联系工艺老师确认）
4. 最大曝光面积: 22 mm × 22 mm
5. 极限分辨率: ≤150 nm
6. 对准精度SMO: 3σ≤ 25 nm
7. 镜头缩放比例: 5：1

 

详情请咨询：

工艺工程师

姓名：徐老师；邮箱：xu.jian@sjtu.edu.cn；电话：021- 34206126-6018

工艺集成工程师

姓名：权老师；邮箱：xuelingquan@sjtu.edu.cn；电话：021- 34207734-8018

 

请注意：预约系统当前显示的价格，即为该设备三五折优惠后的价格；优惠结束日期另行通知。

设备详细介绍查看链接： AEMD官网-平台设备-光刻图形化设备-深紫外步进光刻机

AEMD官网网址：https://aemd.sjtu.edu.cn/

AEMD实验室设备预约管理系统访问网址：https://aemd-lims.sjtu.edu.cn/

感谢您对平台的关注！

 

先进电子材料与器件（AEMD）平台

2025年4月18日