砺十年·集大成·“芯”未来 – AEMD平台十周年庆暨二、三期设备系列推介会成功举办

随着科研技术的不断发展，先进设备在现代科研中起着举足轻重的作用。为了更好地支持校内科研工作，AEMD平台近年来持续加强配置，引入一系列高性能仪器设备。为帮助校内师生及用户团队更好地了解平台的工艺能力，及时掌握新设备的性能特点及预约使用方法，扩大新进大型仪器设备的应用范围，助力科研成果产出，平台决定举办“AEMD十周年庆暨二、三期设备系列推介会”。日前，首场及第二场新设备推介会已于10月16日、23日成功举办，吸引大批师生及用户团队参加。

首场推介会为光刻、有机薄膜设备专场。光刻、有机薄膜设备作为微纳加工领域的重点工艺设备，在精细图形制造和材料沉积方面起到举足轻重的作用。AEMD平台主任程秀兰首先对平台二、三期建设及设备工艺能力作简要介绍，随后，AEMD平台工艺工程师依次对所负责设备作详细介绍，深入讲解深紫外步进式光刻、无掩模激光直写系统、双光子三维微纳打印系统、双面对准曝光对准系统、有机物化学气相沉积系统、Parylene薄膜沉积等多台光刻和薄膜系列设备的工作原理、应用案例及使用方法，为参会师生带来一场理论与实践相结合的精彩分享与知识碰撞。

第二场推介会为封装、湿法、测试设备专场，平台工艺工程师向与会师生详细介绍多款代表行业前沿的高精度设备，包括激光植球机、高精度芯片堆叠组装系统、高精度固晶机、金属电镀系统、原子力显微镜、接触角测量仪、台阶仪/表面轮廓仪、紫外可见分光光度计、电化学CV测试仪以及晶圆表面颗粒缺陷检测仪等。这些设备在封装精度、材料沉积、表面分析及缺陷检测等关键工艺上具备显著优势，为微纳加工工艺提供了全方位支持。

每场推介会均设置互动交流环节，现场气氛热烈，用户与工程师在互动答题、技术探讨中充分交流碰撞，不仅使参会师生对设备加深理解、激发思考，更实现了知识的有效传播。后续AEMD平台将会持续推出更多专场推介会，这也是“AEMD十周年庆暨二、三期正式运行典礼系列活动”之一，旨在详细介绍多种先进科研设备的工作原理、工艺能力、应用实例以及预约使用方法，有效拓展设备的应用范围，提升使用效益，助力校内师生的科研创新工作。同时，系列推介会也将为参会师生提供了与平台工艺工程师面对面交流的机会，不仅可以了解设备的技术原理和实际操作，还能就未来设备的工艺开发、自主创新及科研支撑进行深入探讨。通过设备推介交流，参会师生更全面地掌握如何利用平台资源为科研工作提供支持，并激发出更多的科研思路。平台也将通过这一系列设备推介会，进一步推动学校重大科研成果的产出，在微纳加工与材料研究的前沿领域勇攀高峰。