砺十年·集大成·“芯”未来 – AEMD十周年庆之系列技术交流研讨会持续顺利开展

2024年10月22日，AEMD平台十周年庆系列活动之激光直写技术交流研讨会在电院3-200报告厅举行，近百位校内外用户及半导体制造行业的专家学者、科研人员参会。活动特别邀请德国海德堡公司多位资深专家到场，旨在为与会人员带来一场关于双光子技术前沿及其应用场景的高水平研讨。

AEMD平台主任程秀兰致欢迎辞，感谢各位专家、资深用户、兄弟高校同仁的鼎力支持，并为参会者详细介绍了AEMD平台的整体概况及其近年来在科研技术上的重要进展。程秀兰表示，双光子设备的引入为平台进一步精进工艺技术水平提供重要支撑，AEMD平台也将持续深耕科研服务支撑领域，助力校内外科研团队取得原创性成果突破。

海德堡公司激光直写与灰度曝光、双光子三维图形打印技术专家Benedikt, Stender带来题为《双光子聚合技术在3D微光刻和微信打印中的作用》学术报告，并通过丰富案例展示这一技术在精密制造和纳米结构构建方面的重要作用。Stender先生的演讲内容深入浅出，吸引与会者在现场展开热烈讨论。

AEMD平台研发部工艺工程师徐丽萍分享了AEMD三期新购置的三维微纳打印系统MPO100设备过程中的经验与心得。她详细介绍了该设备的技术优势、操作技巧以及使用过程中遇到的挑战，并针对如何最大化发挥MPO100的功能提出了许多宝贵建议。徐丽萍的分享内容丰富实用，给与会者提供了切实可行的技术参考。海德堡公司设备专家Dominique, Collé带来关于灰度光刻技术及其应用的学术报告。这一技术为复杂的纳米结构制造提供了全新的思路，通过精细调节光束强度，实现更为复杂的微结构雕刻，推动了微纳制造的工艺革新。Collé先生的讲解极具深度，与会者纷纷表示受益匪浅。设备专家Emine, Chagin Bertsch为大家带来热探针扫描成像技术及其在纳米加工中的解决方案，演讲内容极具创新性，尤其是在高分辨率纳米加工领域展现了强大的应用潜力。Bertsch女士从理论到应用层面进行了全方位的解析，使得与会者对这一技术有了更深入的理解。

最后，程秀兰带领与会人员前往AEMD平台新建成的二期实验室进行实地参观。该实验室配备了多台国际顶尖的大型科研仪器设备，旨在为校内外的科研人员提供更全面、更先进的实验支持。参观过程中，大家对AEMD平台的硬件实力和科研环境表示高度赞赏，并对平台助力更多高水平科研成果的产出充满信心。

AEMD平台始终坚持开展系列技术交流研讨会，前期已陆续开展离子束技术原理与前沿应用等专题讲座，旨在为校内外用户及科研团队提供前沿资讯、搭建交流共享平台，而本次激光直写技术交流研讨会不仅是一次高水准的学术盛宴，也是AEMD平台十周年庆暨二、三期正式运行典礼系列活动中的重要环节，不仅让用户群体对激光直写及双光子技术有了更深入的认识，也对AEMD平台的科研支撑能力有了更全面的了解。AEMD平台将继续秉承推动前沿技术发展的使命，持续为广大科研工作者提供最优质的服务与支持，助力科研创新，推动科技进步。