AEMD平台举行佳能步进式光刻机内部培训会

2024年3月5日， AEMD平台举办了为期3天的佳能步进式光刻机内部培训会。来自AEMD平台光刻部、研发部、集成部、厂务部的多名技术人员参加了此次培训。培训会邀请了佳能资深专家张毅先生担任主讲，内容涵盖了佳能步进式光刻机的原理、结构、操作、维护等多个方面。通过理论结合设备设计的讲解，参训人员对该设备有了深入的理解。

佳能步进式光刻机是AEMD平台二期建设采购的大型设备之一，采用KrF准分子激光，能够实现150纳米以下的最小线宽分辨率，满足先进芯片制造的需求。该设备可用于制造集成电路、功率器件、光电器件等多种类型的半导体器件，其引进将大大提升平台的加工能力和服务水平。

此次培训会的举办，有效提升了AEMD平台员工对佳能步进式光刻机的理解和操作能力，为平台二期建设的顺利进行奠定了坚实基础。