【AEMD平台微纳技术系列讲座】
第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用
–AEMD平台微纳技术系列讲座
【讲座主题】第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用
【讲座时间】2022年7月19日(周二) 19:00-20:30
【报告人】金琦（美国升纳科技公司，总经理）
【讲座内容】离子束溅射（IBS）是目前最先进的薄膜沉积技术之一，在精密光学，数据存储，光刻掩膜等高端需求方面被广泛的应用。本讲座将介绍离子束溅射的基本原理，详细对比其他薄膜沉积技术的优缺点，并通过典型应用案例，展示离子束溅射的优势。
本期讲座为本次微纳技术系列讲座的最后一讲，感谢您的持续关注！