关于AEMD平台Olympus测量显微镜STM7设备开放通告

尊敬的各位用户老师、同学：

为了满足学校广大师生的科研需求，AEMD平台新购置的Olympus测量显微镜STM7设备（设备编号：WF1STMO01）已完成安装调试，即日起开放运行，各位用户老师、同学可在AEMD预约系统里预约使用，特此公告。

Olympus测量显微镜STM7设备介绍：

主要用途：

主要用于微纳加工样品的结构观察及测量，也可以适用于超出视场范围大样品测量。

设备工作原理简介：

测量显微镜采用主动反射、共聚焦方法的自动聚焦系统。

图1 主动反射，共聚焦自动聚焦系统光路

工艺能力：

对于标准样品，平面测量精度≤3μm+2%*L,L为测量长度；

对于标准样品，Z轴测量精度≤5μm+3%*L,L为测量长度；

技术指标：

对于标准样品，平面测量精度≤3μm+2%*L，L为测量长度；验收标准L=100mm，L=1mm量测结果L=99.9988mm，L=0.9991mm；

对于标准样品，Z轴测量精度≤5μm+3%*L，L为测量长度；验收标准 L=1.38mm量测结果 L=1.3806mm；

对于开口宽度为40μm、深度超过120μm（深宽比>3）的深硅刻蚀槽样品，深度测量误差≤5μm；验收标准H=131.7nm（by SEM）量测结果H=0.1297mm；

典型使用案例:

1.对于开口宽度为40μm、深度超过120μm（深宽比>3）的深硅刻蚀槽样品，深度测量误差≤5μm；验收标准H=131.7nm（by SEM）量测结果H=0.1297mm；

2.对于标准样品，Z轴测量精度≤5μm+3%*L，L为测量长度；验收标准 L=1.38mm量测结果 L=1.3805mm；

3.对于标准样品，平面测量精度≤3μm+2%*L，L为测量长度；验收标准L=100mm，L=1mm量测结果L=99.9988mm，L=0.9991mm；

设备照片：

 

设备类别：测试设备

设备编号：WF1STMO01

设备地点：西区薄膜一区

工艺工程师:沈赟靓；邮箱：shenyunliang@sjtu.edu.cn；电话：021-34207734-8010

 

测试设备列表：https://aemd.sjtu.edu.cn/设备/设备分类/测试设备/

 

上海交通大学先进电子材料与器件平台

2021年10月22日