关于AEMD平台提供氧化硅片和氮化硅片的通知

尊敬的各位用户：

AEMD平台现向广大用户提供不同尺寸以及不同厚度的热氧化硅片和LPCVD氮化硅片，样品尺寸覆盖3寸到6寸硅片圆片. 薄膜厚度覆盖100纳米到2微米范围，

氧化硅片：薄膜生长方式为通过管式炉管的热氧化方式生长，具备结构更加致密，薄膜质量高，更加耐腐蚀，掩膜能力更强的优点。

氮化硅片：薄膜生长方式为通过低压化学气相沉积炉管方式生长，具备薄膜更加致密，薄膜质量更好等优点，可以提供更好的介质层。

附件为相应的价格以及现有库存情况列表。

若大家有其他厚度方面的需求(包含6英寸硅片圆片），可以在AEMD平台联系李进喜老师登记（电话：34207734-8016）。我们将根据大家的需求情况，考虑制备并提供更多的薄膜厚度范围。

先进电子材料与器件平台

二零一八年一月十二日