【讲座主题】第十六讲 | 扫描电镜成像技术及最新技术进展分享
【讲座时间】2022年7月12日(周二) 19:00-20:30
【报告人】张芳（卡尔蔡司（上海）管理有限公司，区域电镜应用主管）
【讲座内容】您在使用扫描电镜的时候，是否有过以下疑问：众多探头如何选择？导电性差的样品如何拍出漂亮的结果？6寸或8寸玻璃基底的光刻胶样品如何不破片、不喷镀处理拍摄？SEM也能观察位错？ECCI是什么原理？扫描电镜如何助力热点研究领域分析，如锂电领域、半导体领域？扫描电镜可以搭配哪些分析附件？扫描电镜中越来越热门的原位实验有哪些？
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腾讯会议号： 780-3798-6336
会议密码：2022
【讲座预告】
7月15日 第十七讲 | 显微技术在新一代半导体行业解决方案（19:00~20:30）
7月19日 第十八讲 | Ion Beam Sputtering for Thin Film Deposition（19:00~20:30）
【讲座主题】第十七讲 | 显微技术在新一代半导体行业解决方案
【讲座时间】2022年7月15日(周五) 19:00-20:30
【报告人】杨瑞（卡尔蔡司（上海）管理有限公司，高级电镜应用工程师）
【讲座内容】新一代半导体材料的研发是目前半导体行业的发展热点，为了解决新一代半导体材料的研究需求，蔡司将显微镜产品进行全方位整合，提供了一套完整的解决方案，结合光镜、电镜及X射线显微镜，满足从二维到三维，厘米到纳米尺度的各类表征分析需求。
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7月19日 第十八讲 | Ion Beam Sputtering for Thin Film Deposition（19:00~20:30）
【讲座主题】第十八讲 | 离子束溅射技术在高质量薄膜制备中的应用
【讲座时间】2022年7月19日(周二) 19:00-20:30
【报告人】金琦（美国升纳科技公司，总经理）
【讲座内容】离子束溅射（IBS）是目前最先进的薄膜沉积技术之一，在精密光学，数据存储，光刻掩膜等高端需求方面被广泛的应用。本讲座将介绍离子束溅射的基本原理，详细对比其他薄膜沉积技术的优缺点，并通过典型应用案例，展示离子束溅射的优势。
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【致谢】
本期讲座为本次微纳技术系列讲座的最后一讲，感谢您的持续关注！
【讲座主题】第十九讲 | 激光诱导玻璃通孔刻蚀系统原理与应用
【讲座时间】2023年5月31日(周三) 09:15-11:15
【讲座地址】微电子大楼306会议室
【报告人】王宪龙（乐普科（天津）光电有限公司，战略发展与新产品业务开发总监）
【讲座内容】主要介绍激光诱导深度刻蚀工艺在半导体领域的应用以及最新研发成果，特别是涉及TGV、BGV的最新算法、超高频（高于150GHZ）封装应用，玻璃基封装的高密封性、导热性以及可靠性研究等。
【讲座主题】离子束技术：从原理到前沿应用
【讲座时间】2024年9月19日(周四) 14:00
【讲座地址】微电子大楼401会议室
【报告人】曾博士（江苏鲁汶仪器股份有限公司，研发总监）
【讲座内容】本报告将深入探讨离子束技术在微电子、光学、以及其他前沿领域的应用。通过对离子東刻蚀和离子東沉积的原理、特点及应用的系统阐述，旨在为听众提供一个全面深入的了解。
