Laurell 650-8N高性能涂胶机

Laurell  650-8N高性能涂胶机 （Laurell 650-8N Spin-coater） 主要技术指标/Specifications: 最高转速： 12000 rpm Maximum spin speed: 12000rpm 转速精度：+/- 0.5rpm Speed accuracy: +/- 0.5rpm 厚度均匀性：~1% (Resist  S1805, 0.5 um) Thickness uniformity: ~1% (Resist  S1805, 0.5 um) 旋涂尺寸:Min. 3mm; Max.: ø200 or 7″×7″ (178mm; Max.: Substrate size: :Min. 3mm; Max.: ø200 or 7″×7″ (178mm; Max.:. 主要应用：         半导体光刻工艺中光刻胶旋涂。         Spin- coating…

SUSS高性能涂胶机I

SUSS高性能涂胶机I （SUSS Spin-coater） 主要技术指标/Specifications: 支持衬底尺寸：2”,3”,4”,6”及碎片 Substrate size:2”,3”,4”,6”and piece parts. 最快转速：8000rpm Maximum spin speed: 8000rpm 转速准确度：+/- 1rpm Speed accuracy: +/- 1rpm 厚度均匀性：2% (Resist AZ5214E, 1 um) Thickness uniformity: 2% (Resist AZ5214E, 1 um) 可编辑recipe，每个Recipe最多可编辑40步。 Recipe step: maxmum 40 steps for each recipe. 主要用途/Application:         半导体光刻工艺中光刻胶旋涂。         Spin coating photoresist on the substrate.