各位老师、同学： AEMD平台将于近期组织一场关于接近接触式光刻、键合、纳米压印技术及其应用的演讲报告会，具体通知如下。欢迎全校相关学科的老师与同学参加！ 演讲标题：【AEMD系列技术研讨会】接近接触式光刻、键合、纳米压印 演讲时间：2014年9月16日（周二）9:30-11:45 演讲地点：电信群楼3号楼208会议室 演讲人：龚里，在德国爱尔兰根-纽伦堡大学材料专业主修电子材料，旁修玻璃陶瓷材料及固体物理，获材料学硕士学位，并获电子工程学博士学位。曾先后任职于弗朗霍夫集成电路研究所和德国爱尔兰根-纽伦堡大学电子所，从事半导体工艺和测试的研究与教学工作。1994年10月开始就任德国苏斯公司中国区经理，于2001年被派往中国，目前担任苏斯贸易（上海）有限公司总经理。 演讲安排： 一、9:30-10:15 接近接触式光刻机技术介绍及其应用（约45分钟） 二、10:15-11:15 晶圆键合技术及其应用 (约60分钟) 三、11:15-11:45 新型纳米压印技术的应用(约30分钟) 附件：演讲人-龚里简介
Plasma-Therm Technical Workshop: Fundamentals of Plasma Processing (Etching and Deposition) April 25, 2014 (Friday), 8:00am to 5:30pm Room 3-200 SEIEE Building, 800 Dong Chuan Rd, Shanghai 地址：上海市闵行区东川路800号电院群楼3号楼200室 The workshop will focus on the fundamentals of plasma etching and deposition. Lectures will include the basics of plasma reactors and mechanisms for etching and deposition and…
AEMD平台将于本周五联合牛津仪器召开“牛津IBE及ALD设备讲座”，欢迎有兴趣的老师和同学前来，并请帮忙转发给相关的老师们，谢谢！ 时间：2013年12月13日（周五）上午9:30 地点：上海交通大学.微电子大楼.306会议室 （出电梯右转到底） 主题：牛津IBE及ALD设备讲座 主讲人：Dr. Larry Leung 以下是讲座概要及主讲人信息： Ion Beam Etch (IBE) and Ion Beam Deposition (IBD) In this presentation, an overview of the basic theory of ion beam etch and deposition will be given. In particular, the generation of ion beam by a RF inductive coupled plasma source and the use of grid technology to manipulate the beam profile will be discussed. A hardware overview of an Oxford Instruments Ionfab300Plus IBE and IBD system will be given with the emphasis of its dual beam characteristics for etching and deposition in a single chamber. The applications of using IBE and IBD will be finally presented including the use of in‐situ diagnostic such as SIMS for process monitoring and new process development for the deposition of vanadium oxide. Atomic Layer Deposition In this presentation, the basic principles of atomic layer deposition will be presented first including the description of the surface reaction mechanisms and the characteristics of ALD deposition regimes. The presentation is followed by a brief description of an Oxford Instruments FlexAL ALD system with the emphasis of its chamber design and precursor delivery system. The merits of using Plasma‐enhanced ALD (PEALD) will be emphasized as illustrated with examples of low temperature oxide deposition, metal deposition, and other commercial applications such as metal‐insulator‐metal capacitor by ternary metal oxide. Larry Leung Profile Dr. Leung joined Oxford Instruments Plasma Technology as the Process Development Manager in 2002 and was primarily responsible for the product development of molecular beam epitaxy (MBE) tools. Since then, he has also been involved in several technology development projects including hydride vapor phase epitaxy (HVPE), ion beam etch (IBE) and deposition (IBD) and most recently, atomic layer deposition (ALD). He currently holds the position of Product Manager at the company. Prior to joining Oxford Instruments, Dr. Leung was the MBE production manager at IQE, Inc.
AEMD平台将举行“原子层沉积（ALD）技术及其应用讲座”，欢迎各位师生参加，谢谢！ 时间：2013年11月29日（周五）下午3:00 地点：上海交通大学.微电子大楼.401会议室 (凯旋门西侧楼） 主题：Introduction to Atomic Layer Deposition technology and it’s applications 主讲人：芬兰PICOSUN公司黎微明博士，Picosun公司应用总监，18年的ALD经验。 ALD技术背景介绍： ALD技术于1974年由芬兰PICOSUN公司的董事Dr. Tuomo Suntola教授发明，到现在该技术已有40年的历史，国外已经实现产业化，比如英特尔公司研发的45纳米芯片、32纳米芯片中的high-k介电薄膜。 由于该发明及其在ALD研究方面的杰出贡献，Dr. Tuomo Suntola教授在2004年荣获欧洲SEMI奖。 芬兰PICOSUN公司黎微明博士介绍： Dr. Wei-Min Li graduated as a M. Sc. in Chemistry in 1994 and received his PhD in Chemistry in 2000 from the University of Helsinki In Finland. He started work with ALD technology…
本活动由上海交大AEMD平台与蔡司中国显微镜部联合主办 请提前与我们的工作人员联系报名参加 预约方式如下： 韩老师 xiaojiahan@sjtu.edu.cn 34207734-8007 黄小姐 xiaoning.huang@zeiss.com 137-6175-8023 高清海报下载
各位师生： 大家好！ AEMD平台将与卡尔蔡司公司联合在交大举办Auriga和Orion NanoFab氦离子显微镜的应用报告。 报告时间：2013年10月18日 上午9:00-11:00 报告地点：电信裙楼3号楼208室 报告内容分成两个部分： 1.双束聚焦离子技术（FIB/SEM）的进展及应用 45分钟 2.氦/氖离子显微技术进展及卡尔蔡司Orion NanoFab 氦/氖/镓/电多离子/电子束微纳加工与分析平台简介 45 分钟 附件是氦离子显微镜的简介及尉博士的个人简历，还请各位查收。 报告结束后我们将邀请参与的专家一起午餐，继续深入讨论、增加了解。 烦请有兴趣的老师回复邮件至会议联系人：韩老师 xiaojiahan@sjtu.edu.cn 欢迎各位师生踊跃报名！ AEMD平台 卡尔蔡司公司 附件：10月18日报告题目及尉博士简介
尊敬的各位师生： 为了让大家了解最新的拉曼技术，以及HORIBA Scientific光谱新技术在材料表征中的应用，HORIBA集团科学仪器事业部诚邀您参加在上海交通大学举办的技术研讨会。 主办单位：HORIBA Scientific (Jobin Yvon光谱技术) 协办单位：上海交通大学先进电子材料与器件（AEMD）平台 时间：2013年4月11日 下午14:00 地点：上海交通大学（闵行校区）电信学院三号楼100号 会议安排： 时间 内容 14:00-15:10 拉曼光谱技术在材料表征中的应用 —材料表征/拉曼与AFM联用/针尖增强拉曼/同区域成像/PL 15:20-16:00 椭圆偏振光谱仪在新材料薄膜表征中的应用 16:00-16:35 光学光谱系统在材料与器件表征中的应用 为方便我们对会议的组织与安排，请您于4月10日前，通过以下邮件地址报名参加会议。 会议联系人 联 系 人：Ms.Shen 电 话：021-62896060-161 邮件地址: yilei.shen[at]horiba.com…