【2016-12-07】先进CVD碳纳米材料沉积技术与设备

【AEMD系列技术研讨会】 先进CVD碳纳米材料沉积技术与设备 各位老师、同学： 2016年12月7日星期三下午13:30在微电子大楼103会议室，召开AEMD系列技术研讨会——先进CVD碳纳米材料沉积技术与设备，相关信息如下。欢迎全校相关学科的老师与同学参加！   报告时间：2016年12月7日星期三13:30 报告地点：微电子大楼103会议室 讲座简介： 近年来，碳纳米管与石墨烯的浪潮席卷了各个科学领域，引起科学界的广泛关注。近期工业界也开始投入开发碳纳米材料的产业化。这些材料拥有很多非凡的特性，包括热导率，导电性，机械强度等。这些特性使这些材料成为很多新兴技术的最佳选择。 化学气相沉积(CVD)法是能够生产高质量碳纳米管与石墨烯的主要方法。 此方法能满足高端产业的要求，其包括可控性，可重复性以及产量大。此报告将讨论爱思强(AIXTRON)设备所使用的碳纳米管和石墨烯的化学气相沉积技术，会谈及其生长技术的发展方向，商业化的趋势和一些科研客户的相关结果。 爱思强(AIXTRON)沉积设备的设计理念使用了碳纳米管以及石墨烯的生长原理。会中会提供该公司大规模生产设备的状况，以及展示从小规模到300毫米晶元规模的生长结果。   个人简介： Bio Dr. Bingan Chen is a process scientist of carbon nano materials at Aixtron Ltd., contributing to materials research, product deliveryas well as providing support in sales &marketing and business development areas. He supports and coordinates deliverables to projects for both…

【2016-10-19】半导体KKM(切削磨）技术在各类产品的应用、技术难题以及相应的对策

【AEMD系列技术研讨会】 半导体KKM(切削磨）技术在各类产品的应用、技术难题以及相应的对策 各位老师、学生： 2016年10月19日星期三下午13:30~16:00在微电子大楼401会议，召开AEMD系列技术研讨会——半导体KKM(切削磨）技术在各类产品的应用、技术难题以及相应的对策，欢迎有兴趣的师生前往。 具体相关信息如下所示： 【AEMD系列技术研讨会】半导体KKM(切削磨）技术在各类产品的应用、技术难题以及相应的对策 半导体KKM(切削磨）技术在各类产品的应用及最新技术的发展趋势 报告题目：  半导体KKM(切削磨）技术在Memory,Logic以及MEMS器件产品的应用、技术难题以及相应的对策 报告人：    冷雪青 DISCO集团总部营业技术部（市场Group） 报告时间：   2016年10月19日  13:30 报告地点：   微电子大楼401会议室   附件：《Poster for DHC KKM 技術研討会 交大10-19_DC.PDF》

【2016-10-18】基于数字全息技术的MEMS全息测振分析与四维形貌测量技术

【AEMD系列技术研讨会】 基于数字全息技术的MEMS全息测振分析与四维形貌测量技术 各位老师、同学： 2016年10月18日星期二下午13:30在微电子大楼401会议室，召开AEMD系列技术研讨会——基于数字全息技术的MEMS全息测振分析与四维形貌测量技术，相关信息如下。欢迎全校相关学科的老师与同学参加！ 报告时间：2016年10月18 日星期二13:30 报告地点：微电子大楼401会议室 个人简介： 谢申奇，博士，瑞士洛桑联邦理工大学EPFL微电子与微系统专业，毕业于复旦大学微电子学系，主要从事微纳米加工及应用研究，瑞士Lyncee Tec公司市场销售经理。 Lyncée Tec 位于国际奥利匹克之都——瑞士洛桑，是一家拥有全球分销网络、以科技创新推动、以客户需求至上的高科技公司。本公司拥有革命性专利技术“数字全息显微术(Digital Holographic Microscopy (DHM®)”，是目前市场上唯一同时提供专业型透射式和反射式数字全息显微镜的公司。   讲座简介： 数字全息显微镜（Digital Holographic Microscopy, 简称DHM）是数字全息技术在显微领域的应用，也被称为全息显微术。与其他显微技术相比，DHM并不直接记录被观测物体的图像，而是记录含有被观测物体波前信息的全息图，再通过计算机对所记录的全息图进行数值重建来得到被测物体的相位和振幅（光强）信息，进而完成数字三维重构。打个形象的比方来理解数值重建这个过程，就是利用计算机算法代替传统光学显微镜中的成像透镜。DHM拥有与激光干涉一样的纵向皮米级测量精度，同时得益于其非扫描全视场成像机制，DHM能够在视频速率30帧/秒下实现实时三维动态成像（更确切的说是四维成像），而利用超高速相机，甚至能达到1000帧/秒的抓取速率。DHM在记录全息图时也记录下了图上每个像素点的三维信息，因此能够实现对每个像素点的三维同步实时跟踪，在测量微系统与微机电系统MEMS的多维振动应用上体现了独一无二的优势。对于离面（Out-of-plane）运动的测量达到了MEMS多普勒激光测振仪（也被称为MEMS分析仪）的精度，而对于面内（In-plane）运动的测量精度则远远超过目前市场上其他MEMS分析仪的测量精度，达到了1纳米。

【2016-10-14】Dimatix DMP2831材料打印机技术交流会

【AEMD系列技术研讨会】 Dimatix DMP2831材料打印机技术交流会 各位老师、学生： 2016年10月14日星期五9:00在微电子大楼401会议室，召开AEMD系列技术研讨会——Dimatix DMP2831材料打印机技术交流会，具体包括： 1）公司简介 2）产品功能说明 3）现有客户及大致研究方向展示 4）过去的案例及图片分享 5）设备现场演示 6）现场交流讨论 详细设备应用方向和实例见附件。 附件：inkjet-application

【2016-08-05】MOCVD（金属有机物化学气相沉积）原理及其在材料、电子及光电子材料与器件方面的应用

【AEMD系列技术研讨会】 MOCVD（金属有机物化学气相沉积）原理及其在材料、电子及光电子材料与器件方面的应用 各位老师、学生：   2016年8月5日星期五13:30在微电子大楼103会议室，召开AEMD系列技术研讨会——德国Aixtron关于MOCVD（金属有机物化学气相沉积）原理及其在材料、电子及光电子材料与器件方面的应用，欢迎有兴趣的师生前往。 先进电子材料与器件校级平台 二零一六年八月三日

【2016-05-31】半导体KKM(切削磨）技术在各类产品的应用及最新技术的发展趋势

【AEMD系列技术研讨会】 半导体KKM(切削磨）技术在各类产品的应用及最新技术的发展趋势 报告题目：  半导体KKM(切削磨）技术在各类产品的应用及最新技术的发展趋势 报  告 人：  冷雪青 DISCO集团总部营业技术部（市场Group） 报告时间：  2016年5月31日  9:00 报告地点：  微电子大楼401会议室

【2016-05-26】奥林巴斯光学显微镜新技术交流会

【AEMD系列技术研讨会】 奥林巴斯光学显微镜新技术交流会 各位老师、学生：         2016年5月26日星期四10:00在微电子大楼401会议，召开AEMD系列技术研讨会——奥林巴斯光学显微镜新技术交流会，             本次会议奥林巴斯展示的显微镜样机匀可免费使用，具体型号如下：             激光共焦扫描显微镜OLS4100                 光学数码显微镜 DSX510             金相显微镜     BX53M             体式显微镜     SZX16         欢迎有兴趣的师生前往，在提问环节中还有机会获得精美礼品一份。具体相关信息如下所示： 奥林巴斯光学显微镜新技术交流会    …

【2015-12-09】High-rate nano manufacturing and flexible devices

【AEMD系列技术研讨会】 High-rate nano manufacturing and flexible devices 报告题目：   High-rate nano manufacturing and flexible devices 报告人：        陈林森 教授 报告时间：   2015年12月09日  9:30 报告地点：   微电子大楼401会议室   报告人简介： 陈林森，苏州大学研究员、博导，“国家2011计划”苏州纳米科技协同创新中心-微纳柔性制造专业中心主任。苏州苏大维格光电科技股份有限公司董事长，数码激光成像显示国家地方联合工程研究中心主任，江苏省“333工程”首席科学家。 近10年来，承担了国家重大科技（攻关）计划、国家863计划、国际科技合作、江苏省重大成果转化专项和国家自然科学基金等项目。攻克了位相空间微纳光场调控、3D导航飞行曝光、纳米成像与连续变频纳米光刻和卷对卷纳米压印技术等重大难题并填补行业空白，例如研制的“微纳图形高速率直写光刻系统”在以色列、日本和我国高等院所应用；在功能薄膜设计方面，做出了开拓性工作，发明了纳米光变色、3D光学放大、超薄导光和金属微网格透明导电等高性能薄膜，在包括Microsoft等国际著名品牌产品(Surface Pro4)上应用。100余篇论文,100余篇发明专利,其中获中国专利奖（优秀奖）3项。 曾获国家科技进步奖（二等奖，2项）、江苏省科技奖（一等奖，3项）等科技奖20余项，全国留学回国人员成就奖、江苏省创新创业人才奖、全国先进工作者和苏州杰出人才奖等称号。 目前，承担国家863计划-重大项目（召集人）、国家重大科学仪器设备研制专项（首席专家）和国家自然科学基金重大研究计划-集成项目。兼任国家微纳加工与制造产业技术创新试点联盟副理事长、中国光学学会全息与光信息处理专委会主任、全国纳米技术标准化技术委员会委员和江苏省政协委员。 研究兴趣：微纳智能制造系统，裸眼3D激光显示、功能薄膜与柔性电子器件、3D光场打印。   报告内容简介： The development of highly functional films with micro/nano-structures plays a significant role in accelerating the application progress of flexible devices. Design and fabrication…

【2015-06-12】Electroplating…an amazing Techniques for Manufacturing of MEMS Devices

报告题目：Electroplating…an amazing Techniques for Manufacturing of MEMS Devices 报告人： A.Kondomitsos 报告内容：Harmonic Drive – an example for a successful transfer of MEMS application from lab into a production scale by X-ray lithography with SU-8 including electroplating of gold for mask processing and Nickel-Iron electroplating. 报告时间：2015-06-12 12:15 报告地点：微电子大楼401会议室

【2014-11-04】Application of energetic ions for materials modification and analysis at Surrey Ion Beam Centre

各位老师、同学： AEMD平台将于近期组织一场演讲报告会，具体通知如下。欢迎全校相关学科的老师与同学参加！ 演讲主题：Application of energetic ions for materials modification and analysis at Surrey Ion Beam Centre 演讲时间：2014年11月4日（周二）14：00 演讲地点：电信群楼3号楼208会议室 演讲人：彭年华 博士 演讲人简介： Dr. Nianhua Peng was born in Hanyang, Hubei (湖北汉阳). He was awarded BSc in Semiconductor Physics (武汉大学), MSc in Solid State Physics (武汉大学) and PhD in Solid State Physics (Cambridge), in 1982, 1985 and…