关于AEMD平台实验室第五次培训通知

table,th,td { border:2px solid black; } 关于AEMD平台实验室第五次培训通知 各位用户: AEMD平台将开展净化室第五次培训,此次培训具体时间安排如下(见表1.)。净化室培训及考核内容包括:AEMD平台介绍、消防安全、净化室规范、东西区净化室参观等。请各位师生准时参加培训及考核(签到时间也将作为考核标准)。 为合理分配利用平台资源,针对长期不进入净化室操作的用户将在培训通过6个月后取消门禁,用户之后如需使用平台净化室须重新参加培训及考核。 表1. 培训安排 培训安排 理论综合培训 11月3日9:30 消防演习及净化室参观 11月3日13:30 培训地点 微电子大楼105阶梯教室 考核时间 11月8日9:30 考核地点 微电子大楼103会议室   更多通知,请各位老师及同学关注AEMD平台网站最新公告(https://aemd.sjtu.edu.cn/),届时考核通过名单将在平台网站上公布,敬请留意。 如有任何疑问,可随时咨询AEMD平台。 联系电话:021-34207734或34208017; 联系邮箱:aemd@sjtu.edu.cn。 感谢您的支持与配合!                                                                                           先进电子材料与器件校级(AEMD)平台 二零一六年十月二十八日

关于AEMD平台西区实验室培训通知

关于AEMD平台西区实验室培训通知 (仅针对已获得东区门禁授权的用户) 各位用户: AEMD平台现开通西区净化室培训参观,请已获得东区净化室门禁授权并需要使用平台西区净化室的用户报名参加。具体报名方式详见平台预约系统中“帮助中心”《用户操作手册–培训考核报名(20161017).pdf》。   先进电子材料与器件校级平台 二零一六年十月二十八日

中科院上海微系统与信息技术研究所及 部分校外企业人员来访参观

中科院上海微系统与信息技术研究所及部分校外企业人员来访参观 2016年11月27日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所甘甫烷研究员、Acacia通信公司Long Chen经理、Archocom技术公司David Li教授、上海波汇科技股份有限公司对外研究合作部周军经理一行在陈建平教授陪同下至AEMD平台参观交流,平台高级工艺开发权雪玲老师就净化室整体规划、设备配置以及运行使用情况进行了介绍。 AEMD平台秉承“支持高水平科学研究的服务平台”的发展宗旨以及服务、互动、创新与满意的运行管理模式。平台积极促进校内外微纳技术加工科研的深入发展,为校内外各研究团队的科研需求提供支持。 图1. 权雪玲老师与来访人员技术交流 图2. 来访者合影留念

AEMD平台2016年校内推介暨用户交流会顺利召开

AEMD平台2016年校内推介暨用户交流会顺利召开 上海交通大学先进电子材料与器件校级平台(简称AEMD平台)校内推介暨用户交流会于2016年10月25日在闵行校区微电子大楼顺利召开。 AEMD平台成立于2014年11月,致力于先进微纳材料与器件加工科研服务的校级公共平台。目前已有100余位校内教师使用平台相关设备开展其科研工作,并取得较丰硕的研究成果。为更好地服务于学校各科研团队,增进校内师生对AEMD平台设备与工艺服务能力的了解,推进我校大型仪器设备的使用效能,促进相关研究的深入发展,提升我校各研究团队的整体科研能力与水平。AEMD平台特举办了此次非电类校内用户推介暨用户交流会。 本次交流会由先进电子材料与器件校级平台主办,吸引了第一批来自校内各用户单位的老师与学生的热情参与,其中包括材料科学与工程学院、机械与动力工程学院、物理与天文系、密西根学院、巴黎高科卓越工程师学院、生物医学工程学院、药学院、Bio-X研究院及船舶海洋与建筑工程学院、电子信息与电气工程学院等多个学院。 先进电子材料与器件校级平台常务副主任程秀兰研究员向到场来宾作了详细的平台介绍,其中包括平台历史及发展定位、净化室概况、设备配置、工艺支撑能力等。 会议还邀请了平台用户,来自密西根学院的特别研究员——但亚平博士和来自机械与动力工程学院的副研究员——沈彬博士,分别为到场来宾作了精彩绝伦的特邀用户报告,引来了阵阵掌声。 会议最后,到场来宾与先进电子材料与器件校级平台的领导和工艺负责老师进行了现场交流互动,并且参观了位于微电子学院一层的AEMD净化室,实地感受平台的场地及设备等信息。 本次交流会使得校内用户更加充分地了解先进电子材料与器件校级平台的设备条件及加工能力,对于用户更好地开展科研起到了推动作用。会后交流及问卷调查加深了平台与校内用户群体之间的交流沟通,将积极促进我校相关研究的深入发展,推动平台更好地服务于各研究团队的整体科研需求的能力。 此次交流会,不仅为AEMD平台、广大微纳技术加工科研人员提供一个交流和自我展示的机会,更对提升AEMD平台服务质量与科研研究的整体水平,有效发挥校内公共实验室的示范引领作用,推动平台为各校内用户未来的科研提供强有力的技术条件支撑产生了积极的影响。

关于AEMD平台西区任意信号发生器(AWG)、数据采集与分析仪器、数据采集与分析仪器、高精度贴片机、WB-91D多功能压焊机开放试运行的通知

关于AEMD平台西区任意信号发生器(AWG)、数据采集与分析仪器、数据采集与分析仪器、高精度贴片机、WB-91D多功能压焊机开放试运行的通知 各位老师、同学:   为了满足学校广大师生的科研需求,AEMD平台购置的任意信号发生器(AWG)、数据采集与分析仪器、数据采集与分析仪器、高精度贴片机、WB-91D多功能压焊机已完成安装调试,从2016年10月24日起开放运行,各位用户老师、学生可预约使用,特此公告。 任意信号发生器(AWG) 样品尺寸:自定尺寸 功能:用于给被测通信系统提供所需要的各种信号。带宽范围:0-25GHZ 数据采集与分析仪器 样品尺寸:自定尺寸 功能:用于高速信号捕获、采样、眼图测量、抖动分析等,为高速信号离线处理提供了可能。带宽范围:0-36GHZ 高精度贴片机 样品尺寸:0.2×0.2mm – 24x24mm 功能:适用于各类微组装贴片工艺,包括热压、共晶焊、超声焊、热超声焊、胶粘贴片等,也适用于倒装芯片精密键合。 WB-91D多功能压焊机 样品尺寸:15*15mm范围内尺寸自定 功能:电子元器件封装生产中芯片内部引脚互连工艺引线,满足球焊、楔焊、深腔压焊。   先进电子材料与器件校级平台 二零一六年十月二十日

关于AEMD平台实验室第五次培训报名的通知

关于AEMD平台实验室第五次培训报名的通知 各位平台用户:   AEMD平台将于近期开展第五次实验室综合培训,请有需要的用户尽快登录平台网上预约系统,进行报名;报名的操作步骤详见系统里“帮助中心”的相关操作手册。(点击可登录预约系统:预约登录 )   先进电子材料与器件校级平台 二零一六年十月十八日

关于AEMD平台预约系统新用户注册及使用的相关说明

关于AEMD平台预约系统新用户注册及使用的相关说明  各位平台用户:   若您是校内用户,需要注册使用本平台预约系统,请先确认您的账户负责人已在平台建立过实际的账户,然后由您的账户负责人以其交大邮箱发送成员名单至aemdSupport@sjtu.edu.cn ,邮件标题格式:AEMD平台账户用户信息登记表(学院–账户负责人姓名),成员名单统计格式见附件1。平台收到名单邮件后,将在三个工作日内完成该账户及相关成员的系统信息初始化,并且届时将邮件告知系统登录用户名及初始密码。   若您是校外用户,①与平台签订项目合同的用户,由平台负责预约安排实验。②与平台签订的是建立账户并预充值的用户,现需自主预约设备使用。请按附件2格式要求发送至aemdSupport@sjtu.edu.cn说明已完成合同编号(例:SJTU-AEMD-2016-001),并补充相关信息完成新用户注册,届时将邮件告知系统登录用户名及初始密码,用户即可登录https://aemd.sjtu.edu.cn:8989/portal/root/lims_shjd/index.jsp预约使用设备。预约设备操作流程详见“帮助中心”(登录系统后可见)。   用户如在使用预约软件中有其它问题可登录系统,在“帮助中心”下载相关操作手册,或联系平台(联系人:马老师,联系电话:34207734-8007,联系手机:拨打交大大号13524740000转小号613756,联系邮箱:aemdSupport@sjtu.edu.cn )   《附件1:校内–AEMD平台账户用户信息登记表(2016.09).xls》 《附件2:校外–AEMD平台账户用户信息登记表(2016.09).xls》   先进电子材料与器件校级平台 二零一六年十月十八日

关于AEMD平台校园推广兼用户交流会的通知

关于AEMD平台校园推广兼用户交流会的通知 各位老师、同学,大家好,   为了更好地服务于学校科研工作,充分利用大型仪器设备,促进相关研究的深入发展,先进电子材料与器件平台(AEMD)作为学校唯一开放性的微纳结构加工大型平台将于10月下旬在校内举行AEMD平台介绍及用户交流大会。届时将会详细介绍平台的加工能力、设备情况及一些典型工艺和器件研发应用的邀请学术报告。欢迎各位老师及同学踊跃报名参加。   会议名称:先进电子材料与器件校级平台(简称AEMD)校内推广兼用户交流会 会议时间:2016年10月25日上午9:30 会议地点:闵行校区微电子大楼105室 会议主要内容如下: 平台简介及设备、工艺介绍 特邀用户报告:报告题目: A photoconductor intrinsically has no gain         报告人:上海交通大学密西根学院 但亚平 特别研究员 特邀用户报告:报告题目:金刚石涂层在微细加工刀具表面的应用         报告人:上海交通大学机械与动力工程学院 沈彬 副研究员 相关问题解答 平台参观   请在以下链接中进行活动注册: https://www.wenjuan.com/s/ymeiIfl/ AEMD校级平台简介   先进电子材料与器件校级平台(AEMD)创建于2012年,于2014年11月6日起正式对外运行,是为全校科研工作提供服务的大型仪器设备校级共享平台,具备10nm至微米级微纳器件与图形的加工与测试能。 AEMD平台分别座落于交大闵行校区微电子大楼一层(西区)以及综合实验楼一层(东区),实验室共有近1510m2的100级、1000级净化室,其中100级210 m2,1000级约1300m2。除此之外,平台还拥有近250m2非净化测试加工区。平台建设有一条能对硅、玻璃和有机材料进行微纳米加工的3~6英寸半导体级实验线(西区实验室)以及一条3~4英寸非硅/MEMS微纳加工实验线(东区实验室),部分设备可实现8英寸基片加工。AEMD拥有电子束曝光系统、双束聚焦离子束系统、双面对准紫外光刻机、热压/紫外纳米压印系统、涂胶显影系统、微波去胶机、氧化扩散炉、多晶硅/氮化硅LPCVD炉、快速热处理设备、湿法清洗刻蚀台、多靶磁控溅射系统、超高真空磁控溅射系统、电子束蒸发设备、离子束溅射机、离子束刻蚀机、等离子增强化学气相沉积设备、金属反应离子刻蚀设备、介质反应离子刻蚀设备、深硅刻蚀系统、场发射扫描电镜、原子力显微镜、半导体参数测试仪、霍尔效应仪、四探针测试仪、表面轮廓仪、紫外膜厚仪等先进的微纳加工与测试设备,为高水平的科研和高层次的人才培养提供了良好的实验平台。详细信息请参见https://aemd.sjtu.edu.cn/。

【2016-10-19】半导体KKM(切削磨)技术在各类产品的应用、技术难题以及相应的对策

【AEMD系列技术研讨会】 半导体KKM(切削磨)技术在各类产品的应用、技术难题以及相应的对策 各位老师、学生: 2016年10月19日星期三下午13:30~16:00在微电子大楼401会议,召开AEMD系列技术研讨会——半导体KKM(切削磨)技术在各类产品的应用、技术难题以及相应的对策,欢迎有兴趣的师生前往。 具体相关信息如下所示: 【AEMD系列技术研讨会】半导体KKM(切削磨)技术在各类产品的应用、技术难题以及相应的对策 半导体KKM(切削磨)技术在各类产品的应用及最新技术的发展趋势 报告题目:  半导体KKM(切削磨)技术在Memory,Logic以及MEMS器件产品的应用、技术难题以及相应的对策 报告人:    冷雪青 DISCO集团总部营业技术部(市场Group) 报告时间:   2016年10月19日  13:30 报告地点:   微电子大楼401会议室   附件:《Poster for DHC KKM 技術研討会 交大10-19_DC.PDF》

【2016-10-18】基于数字全息技术的MEMS全息测振分析与四维形貌测量技术

【AEMD系列技术研讨会】 基于数字全息技术的MEMS全息测振分析与四维形貌测量技术 各位老师、同学: 2016年10月18日星期二下午13:30在微电子大楼401会议室,召开AEMD系列技术研讨会——基于数字全息技术的MEMS全息测振分析与四维形貌测量技术,相关信息如下。欢迎全校相关学科的老师与同学参加! 报告时间:2016年10月18 日星期二13:30 报告地点:微电子大楼401会议室 个人简介: 谢申奇,博士,瑞士洛桑联邦理工大学EPFL微电子与微系统专业,毕业于复旦大学微电子学系,主要从事微纳米加工及应用研究,瑞士Lyncee Tec公司市场销售经理。 Lyncée Tec 位于国际奥利匹克之都——瑞士洛桑,是一家拥有全球分销网络、以科技创新推动、以客户需求至上的高科技公司。本公司拥有革命性专利技术“数字全息显微术(Digital Holographic Microscopy (DHM®)”,是目前市场上唯一同时提供专业型透射式和反射式数字全息显微镜的公司。   讲座简介: 数字全息显微镜(Digital Holographic Microscopy, 简称DHM)是数字全息技术在显微领域的应用,也被称为全息显微术。与其他显微技术相比,DHM并不直接记录被观测物体的图像,而是记录含有被观测物体波前信息的全息图,再通过计算机对所记录的全息图进行数值重建来得到被测物体的相位和振幅(光强)信息,进而完成数字三维重构。打个形象的比方来理解数值重建这个过程,就是利用计算机算法代替传统光学显微镜中的成像透镜。DHM拥有与激光干涉一样的纵向皮米级测量精度,同时得益于其非扫描全视场成像机制,DHM能够在视频速率30帧/秒下实现实时三维动态成像(更确切的说是四维成像),而利用超高速相机,甚至能达到1000帧/秒的抓取速率。DHM在记录全息图时也记录下了图上每个像素点的三维信息,因此能够实现对每个像素点的三维同步实时跟踪,在测量微系统与微机电系统MEMS的多维振动应用上体现了独一无二的优势。对于离面(Out-of-plane)运动的测量达到了MEMS多普勒激光测振仪(也被称为MEMS分析仪)的精度,而对于面内(In-plane)运动的测量精度则远远超过目前市场上其他MEMS分析仪的测量精度,达到了1纳米。