闵行区消防局工作人员现场勘察AEMD消防设施(2014-3-31)
2014年3月31日下午，闵行区消防支队马哲警官（中校）及其助手来AEMD现场进行消防设施勘察，AEMD净化工程建设方中电四公司的项目经理胡勇建经理做消防主要答问，消防科朱汉忠老师、所骋老师全程陪同，AEMD平台程秀兰老师、梁国恩老师作补充介绍。 勘察期间，马警官对AEMD净化工程整体情况作了进一步了解，与我项目人员就消防安全设施方面进行了沟通，并提出了一些专业意见。
郁文贤副院长一行视察AEMD平台进展(2014-3-26)
2014年3月26日上午，电信学院副院长郁文贤等一行人访问AEMD平台，就AEMD平台近况、项目进展等事宜进行了热烈的讨论。
【2013-12-13】牛津IBE及ALD设备讲座
AEMD平台将于本周五联合牛津仪器召开“牛津IBE及ALD设备讲座”，欢迎有兴趣的老师和同学前来，并请帮忙转发给相关的老师们，谢谢！ 时间：2013年12月13日（周五）上午9:30 地点：上海交通大学.微电子大楼.306会议室 （出电梯右转到底） 主题：牛津IBE及ALD设备讲座 主讲人：Dr. Larry Leung 以下是讲座概要及主讲人信息： Ion Beam Etch (IBE) and Ion Beam Deposition (IBD) In this presentation, an overview of the basic theory of ion beam etch and deposition will be given. In particular, the generation of ion beam by a RF inductive coupled plasma source and the use of grid technology to manipulate the beam profile will be discussed. A hardware overview of an Oxford Instruments Ionfab300Plus IBE and IBD system will be given with the emphasis of its dual beam characteristics for etching and deposition in a single chamber. The applications of using IBE and IBD will be finally presented including the use of in‐situ diagnostic such as SIMS for process monitoring and new process development for the deposition of vanadium oxide. Atomic Layer Deposition In this presentation, the basic principles of atomic layer deposition will be presented first including the description of the surface reaction mechanisms and the characteristics of ALD deposition regimes. The presentation is followed by a brief description of an Oxford Instruments FlexAL ALD system with the emphasis of its chamber design and precursor delivery system. The merits of using Plasma‐enhanced ALD (PEALD) will be emphasized as illustrated with examples of low temperature oxide deposition, metal deposition, and other commercial applications such as metal‐insulator‐metal capacitor by ternary metal oxide. Larry Leung Profile Dr. Leung joined Oxford Instruments Plasma Technology as the Process Development Manager in 2002 and was primarily responsible for the product development of molecular beam epitaxy (MBE) tools. Since then, he has also been involved in several technology development projects including hydride vapor phase epitaxy (HVPE), ion beam etch (IBE) and deposition (IBD) and most recently, atomic layer deposition (ALD). He currently holds the position of Product Manager at the company. Prior to joining Oxford Instruments, Dr. Leung was the MBE production manager at IQE, Inc.
林忠钦常务副校长一行视察AEMD净化工程项目进展(2013-12-02)
2013年12月2日下午，林忠钦常务副校长一行来访微电子大楼视察AEMD净化工程项目进展，同行的还有学校人事处、财务处、资产处、后勤保障处及211/985办公室的领导。 来访领导首先参观了已基本建设完成的AEMD净化室，而后在AEMD办公室召开了协调会议，会议肯定了AEMD现阶段完成工作，并就下一阶段工作安排了整体部署，就有关问题形成了共识。
AEMD平台代表队荣获电院教职工运动会“最佳组织奖”(2013-11-02)
2013年11月2日，电子信息与电气工程学院召开第二届学院教职工运动会，AEMD平台作为一支年轻的队伍第一次参加电院教职工运动会。AEMD平台全体人员携家属积极参加运动会，由于大家的共同努力，AEMD平台代表队表现出色，不仅荣获“最佳组织奖”，还勇夺了男子俯卧撑一等奖和投篮比赛三等奖的好名次，最终总分仅次于第三名。 此次运动会，AEMD平台全体人员团结努力，积极进取，赛出水平，赛出风格，在学院领导及其他代表队面前展现了AEMD平台的活力和风采。
【AEMD系列技术研讨会】蔡司校园行顺利举行(2013-10-30)
2013年10月30日，由上海交通大学AEMD平台与卡尔蔡司公司联合举办的“蔡司校园行——博学蔡司 明辨未来”在上海交大电信学院3-100会议室顺利举行。 本次会议由卡尔蔡司公司显微镜部为我们作了多个精彩的报告，报告吸引了来自上海交大电信学院、物理系、材料学院、化学化工学院、微纳技术研究院等多个学院的师生参与，尤其是最后的智力问答，大家都积极抢答。会后卡尔蔡司公司现场接受了与会学生的简历投递，还相互进行了热切的交流。
【2013-11-29】芬兰PICOSUN原子层沉积应用的专家报告
AEMD平台将举行“原子层沉积（ALD）技术及其应用讲座”，欢迎各位师生参加，谢谢！ 时间：2013年11月29日（周五）下午3:00 地点：上海交通大学.微电子大楼.401会议室 (凯旋门西侧楼） 主题：Introduction to Atomic Layer Deposition technology and it’s applications 主讲人：芬兰PICOSUN公司黎微明博士，Picosun公司应用总监，18年的ALD经验。 ALD技术背景介绍： ALD技术于1974年由芬兰PICOSUN公司的董事Dr. Tuomo Suntola教授发明，到现在该技术已有40年的历史，国外已经实现产业化，比如英特尔公司研发的45纳米芯片、32纳米芯片中的high-k介电薄膜。 由于该发明及其在ALD研究方面的杰出贡献，Dr. Tuomo Suntola教授在2004年荣获欧洲SEMI奖。 芬兰PICOSUN公司黎微明博士介绍： Dr. Wei-Min Li graduated as a M. Sc. in Chemistry in 1994 and received his PhD in Chemistry in 2000 from the University of Helsinki In Finland. He started work with ALD technology…
【2013-10-30】蔡司校园行——博学蔡司 明辨未来
本活动由上海交大AEMD平台与蔡司中国显微镜部联合主办 请提前与我们的工作人员联系报名参加 预约方式如下： 韩老师 xiaojiahan@sjtu.edu.cn 34207734-8007 黄小姐 xiaoning.huang@zeiss.com 137-6175-8023 高清海报下载
【AEMD系列技术研讨会】蔡司氦离子显微镜的应用报告顺利举行(2013-10-18)
2013年10月18日，由上海交通大学AEMD平台与卡尔蔡司公司联合举办的技术研讨会“Auriga和Orion NanoFab氦离子显微镜的应用报告”在上海交大电信学院3-208会议室顺利举行。本次会议由卡尔蔡司公司离子显微技术研发中心高级研究员尉东光先生为我们作了精彩的报告，报告简单介绍了氦/氖离子显微技术的最新进展，并对Orion NanoFab 技术平台的设计思路和典型的应用案例进行分析介绍。研讨会吸引了来自上海交大电信学院、物理系、材料学院、化学化工学院、微纳技术研究院等多个学院的师生参与，会后大家也进行了热切的交流与讨论。
【2013-10-18】Auriga和Orion NanoFab氦离子显微镜的应用报告
各位师生： 大家好！ AEMD平台将与卡尔蔡司公司联合在交大举办Auriga和Orion NanoFab氦离子显微镜的应用报告。 报告时间：2013年10月18日 上午9:00-11:00 报告地点：电信裙楼3号楼208室 报告内容分成两个部分： 1.双束聚焦离子技术（FIB/SEM）的进展及应用 45分钟 2.氦/氖离子显微技术进展及卡尔蔡司Orion NanoFab 氦/氖/镓/电多离子/电子束微纳加工与分析平台简介 45 分钟 附件是氦离子显微镜的简介及尉博士的个人简历，还请各位查收。 报告结束后我们将邀请参与的专家一起午餐，继续深入讨论、增加了解。 烦请有兴趣的老师回复邮件至会议联系人：韩老师 xiaojiahan@sjtu.edu.cn 欢迎各位师生踊跃报名！ AEMD平台 卡尔蔡司公司 附件：10月18日报告题目及尉博士简介