OLED器件实验制备系统

（OLED Device Preparation System）

主要技术指标/Specifications：

  1. 配置：1个热蒸发腔室、1台UV固化设备（365nm）及1氮气手套箱，可实现OLED多层膜制备与器件封装

Configuration: one thermal evaporation chamber, one UV solidification tool, one glove-box with N2 protection for multi-layer preparation and package of OLED devices

  1. 蒸发源：7个OLED有机分子热蒸发源（如NPB、ALQ等），3个金属源（如Al, Ag, Au等）

Evaporation sources: 7 OLED organic sources (e.g., NPB, ALQ, etc.), 3 metal sources (e.g., Al, Ag, Au, etc.)

  1. 蒸发腔室极限真空度：5´10-6 Torr

Ultimate vacuum of evaporation chamber: 5´10-6 Torr

  1. 蒸发膜厚均匀性 : ±5%

Evaporation film non-uniformity: ±5%

  1. 基片尺寸：3´3cm 及以下

Substrate size: 3´3cm and below

主要用途/Applications：

        仅限用于OLED器件薄膜制备与器件封装

        Only used for the film stack’s preparation and packaging of OLED devices.OLED器件实验制备系统