PE-100等离子去胶（刻蚀）仪

（PE-100 Plasma Etch Benchtop System）

主要技术指标/Specifications：

  1. 300W、100KHZ的射频功率

RF power: 200W, 100KHZ

  1. 具备等离子电极和反应离子控制台

Configured plasma electrodes and reactive ion etching control panel

主要用途/Applications：

        等离子去胶，氧等离子表面处理

        Stripping photoresist and plasma surface-treatment with oxygen plasma

PE-100等离子去胶（刻蚀）仪