【2016-12-07】先进CVD碳纳米材料沉积技术与设备

【AEMD系列技术研讨会】 先进CVD碳纳米材料沉积技术与设备 各位老师、同学: 2016年12月7日星期三下午13:30在微电子大楼103会议室,召开AEMD系列技术研讨会——先进CVD碳纳米材料沉积技术与设备,相关信息如下。欢迎全校相关学科的老师与同学参加!   报告时间:2016年12月7日星期三13:30 报告地点:微电子大楼103会议室 讲座简介: 近年来,碳纳米管与石墨烯的浪潮席卷了各个科学领域,引起科学界的广泛关注。近期工业界也开始投入开发碳纳米材料的产业化。这些材料拥有很多非凡的特性,包括热导率,导电性,机械强度等。这些特性使这些材料成为很多新兴技术的最佳选择。 化学气相沉积(CVD)法是能够生产高质量碳纳米管与石墨烯的主要方法。 此方法能满足高端产业的要求,其包括可控性,可重复性以及产量大。此报告将讨论爱思强(AIXTRON)设备所使用的碳纳米管和石墨烯的化学气相沉积技术,会谈及其生长技术的发展方向,商业化的趋势和一些科研客户的相关结果。 爱思强(AIXTRON)沉积设备的设计理念使用了碳纳米管以及石墨烯的生长原理。会中会提供该公司大规模生产设备的状况,以及展示从小规模到300毫米晶元规模的生长结果。   个人简介: Bio Dr. Bingan Chen is a process scientist of carbon nano materials at Aixtron Ltd., contributing to materials research, product deliveryas well as providing support in sales &marketing and business development areas. He supports and coordinates deliverables to projects for both…