【2013-11-29】芬兰PICOSUN原子层沉积应用的专家报告

AEMD平台将举行“原子层沉积（ALD）技术及其应用讲座”，欢迎各位师生参加，谢谢！ 时间：2013年11月29日（周五）下午3:00 地点：上海交通大学.微电子大楼.401会议室 (凯旋门西侧楼） 主题：Introduction to Atomic Layer Deposition technology and it’s applications 主讲人：芬兰PICOSUN公司黎微明博士，Picosun公司应用总监，18年的ALD经验。 ALD技术背景介绍： ALD技术于1974年由芬兰PICOSUN公司的董事Dr. Tuomo Suntola教授发明，到现在该技术已有40年的历史，国外已经实现产业化，比如英特尔公司研发的45纳米芯片、32纳米芯片中的high-k介电薄膜。 由于该发明及其在ALD研究方面的杰出贡献，Dr. Tuomo Suntola教授在2004年荣获欧洲SEMI奖。 芬兰PICOSUN公司黎微明博士介绍： Dr. Wei-Min Li graduated as a M. Sc. in Chemistry in 1994 and received his PhD in Chemistry in 2000 from the University of Helsinki In Finland. He started work with ALD technology…