【AEMD平台微纳技术系列讲座】第十一讲 | 关于EBL曝光质量和速度的讨论

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2022-06-23

【AEMD平台微纳技术系列讲座】

第十一讲 | 关于EBL曝光质量和速度的讨论

--AEMD平台微纳技术系列讲座

【讲座时间】2022年6月24日(周五) 14:00-15:30 【报告人】朱国（Raith公司，副总经理） 【讲座内容】电子束光刻系统是产生聚焦电子束和控制电子束按照设计的版图直写的设备。电子束光刻以其分辨率高、性能稳定，成本相对较低的特点，因而成为人们最为关注的下一代光刻技术之一。电子束光刻系统的重要参数包括如电子束能量、束电流、束直径、写场大小、图型发生器速度、拼接或套刻精度等。讲座将探讨这些主要参数和它们之间的相互作用以及如何针对特定应用进行优化。

（扫码入会）

腾讯会议号： 780-3798-6336

会议密码：2022

【讲座预告】

6月28日第十二讲 | FIB在材料以及器件等领域的应用（19:00~20:30）

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