SUSS MA6双面对准光刻机 （SUSS MA6 Mask Aligner） 主要技术指标/Specifications: 紫外光波长：350nm～450nm Exposure wavelength:350nm～450nm 光强均匀性：2% （6英寸的衬底） Light intensity uniformity:2% （6inch wafer） 分辨率: 0.8μm Resolution: 0.8μm 正面套准精度：0.5μm Top side overlay accuracy: 0.5μm 背面套准精度：1μm Back side overlay accuracy:1μm 基片尺寸：支持6英寸以下5、4、3以及破片 Substrate size: 3”, 4”, 5”, 6”, and piece parts. 主要用途/Applications: 微纳器件加工中曝光微米级结构图型。 Patterning of micrometer-scale structures with photoresist.
VistecEBPG-5200+电子束光刻系统 （Vistec EBPG-5200+Electron-beam lithography system） 主要技术指标/Specifications: 最大加速电压：100KV Accelerating voltage: 100KV 最大扫描速度：50MHZ Pattern generator frequency: 50MHz 束流：0.1nA~100nA Beam current：0.1nA~100nA 最小束斑直径：≤3nm Minimum beam spot size: ≤3nm 电子束寻址位DAC: 20bits主场，14bits子场 DAC addressing: 20bits main field, 14bits sub field 最小实测线宽：≤8nm Minimum measured line width：≤8nm 最小重合/拼接精度：±12 nm Minimum stitching/overlay accuracy: ±12 nm 最大写场：1mm*1mm Write filed: 1mm*1mm 基片尺寸：支持8英寸基片及6英寸掩膜版，同时兼容3、4、5、6英寸硅片与4、5、6、7英寸掩膜版、以及破片的电子束加工，最大基片厚度0.675mm。 Substrate size: 2”,3”,4”,5”, 6”,8”,…
东南大学凌新生教授来访参观 2015年12月15日，东南大学凌新生教授至AEMD平台参观交流，平台常务副主任程秀兰老师就净化室整体规划、设备配置以及运行使用情况进行了介绍，凌教授在了解平台现有加工工艺能力后，对平台的建设予以充分的肯定。同时，凌教授就其科研方向纳米孔与平台程老师展开热烈的讨论，并提到AEMD平台的建立在一定程度上弥补了上海乃至中国在微纳技术领域的缺憾。 图1. 平台程秀兰老师向凌新生教授介绍AEMD平台现状 图2. 程秀兰老师和凌新生教授就纳米孔展开热烈的讨论
苏州大学教授陈林森应邀至AEMD开展研讨会 2015年12月9日，苏州大学教授、中国光学学会全息与光信息处理专业委员会主任，数码激光成像与显示教育部研究中心主任陈林森教授应邀至AEMD平台参观指导，并在微电子大楼401会议室开展关于高速及柔性器件相关研讨会。 陈林森教授就目前微纳技术领域的应用和局限性做了简单的介绍后，提出现今其科研的主要方向在于高速和柔性器件，陈教授和其团队还为平台用户带来他们最近研发的科研产品。研讨会期间，平台用户都对陈教授目前研发的方向产生浓厚的兴趣，在会后仍与陈教授热烈的讨论。同时陈教授也对平台的发展和建立表示充分的肯定和支持。 陈林森教授简介： 陈林森，苏州大学研究员、博导，“国家2011计划”苏州纳米科技协同创新中心-微纳柔性制造专业中心主任。苏州苏大维格光电科技股份有限公司董事长，数码激光成像显示国家地方联合工程研究中心主任，江苏省“333工程”首席科学家。 近10年来，承担了国家重大科技（攻关）计划、国家863计划、国际科技合作、江苏省重大成果转化专项和国家自然科学基金等项目。攻克了位相空间微纳光场调控、3D导航飞行曝光、纳米成像与连续变频纳米光刻和卷对卷纳米压印技术等重大难题并填补行业空白，例如研制的“微纳图形高速率直写光刻系统”在以色列、日本和我国高等院所应用；在功能薄膜设计方面，做出了开拓性工作，发明了纳米光变色、3D光学放大、超薄导光和金属微网格透明导电等高性能薄膜，在包括Microsoft等国际著名品牌产品(Surface Pro4)上应用。100余篇论文,100余篇发明专利,其中获中国专利奖（优秀奖）3项。 目前，承担国家863计划-重大项目（召集人）、国家重大科学仪器设备研制专项（首席专家）和国家自然科学基金重大研究计划-集成项目。兼任国家微纳加工与制造产业技术创新试点联盟副理事长、中国光学学会全息与光信息处理专委会主任、全国纳米技术标准化技术委员会委员和江苏省政协委员。
【AEMD系列技术研讨会】 High-rate nano manufacturing and flexible devices 报告题目： High-rate nano manufacturing and flexible devices 报告人： 陈林森 教授 报告时间： 2015年12月09日 9:30 报告地点： 微电子大楼401会议室 报告人简介： 陈林森，苏州大学研究员、博导，“国家2011计划”苏州纳米科技协同创新中心-微纳柔性制造专业中心主任。苏州苏大维格光电科技股份有限公司董事长，数码激光成像显示国家地方联合工程研究中心主任，江苏省“333工程”首席科学家。 近10年来，承担了国家重大科技（攻关）计划、国家863计划、国际科技合作、江苏省重大成果转化专项和国家自然科学基金等项目。攻克了位相空间微纳光场调控、3D导航飞行曝光、纳米成像与连续变频纳米光刻和卷对卷纳米压印技术等重大难题并填补行业空白，例如研制的“微纳图形高速率直写光刻系统”在以色列、日本和我国高等院所应用；在功能薄膜设计方面，做出了开拓性工作，发明了纳米光变色、3D光学放大、超薄导光和金属微网格透明导电等高性能薄膜，在包括Microsoft等国际著名品牌产品(Surface Pro4)上应用。100余篇论文,100余篇发明专利,其中获中国专利奖（优秀奖）3项。 曾获国家科技进步奖（二等奖，2项）、江苏省科技奖（一等奖，3项）等科技奖20余项，全国留学回国人员成就奖、江苏省创新创业人才奖、全国先进工作者和苏州杰出人才奖等称号。 目前，承担国家863计划-重大项目（召集人）、国家重大科学仪器设备研制专项（首席专家）和国家自然科学基金重大研究计划-集成项目。兼任国家微纳加工与制造产业技术创新试点联盟副理事长、中国光学学会全息与光信息处理专委会主任、全国纳米技术标准化技术委员会委员和江苏省政协委员。 研究兴趣：微纳智能制造系统，裸眼3D激光显示、功能薄膜与柔性电子器件、3D光场打印。 报告内容简介： The development of highly functional films with micro/nano-structures plays a significant role in accelerating the application progress of flexible devices. Design and fabrication…
电院首届国际青年学者来访参观 10月29日上午，以“智慧城市”为主题，首届“国际青年学者论坛”在上海交通大学电子信息与电气工程学院3-200报告厅拉开帷幕，来自海内外三十余名信息技术领域的青年学者出席论坛。 本次论坛以“智慧城市”为主题涉及了与信息科技相关的所有学科，不仅包括基础的实验研究，也包括实际的社会应用。论坛旨在为世界各地的青年学者提供一个交流的平台。众多青年学者可在论坛中交流思想，互动合作，相互启发，不断地在高速发展的信息科技领域迸发出新的灵感。 10月30日，各嘉宾及青年学者到先进电子材料与校级平台参观。平台常务副主任程秀兰老师陪同参观，程老师向各青年学者介绍AEMD平台秉承“支持高水平科学研究的服务平台”的发展宗旨以及服务、互动、创新与满意的运行管理模式。各青年学者对平台的建设予以高度的肯定！
table,th,td { border:2px solid black; } 关于规范AEMD平台预约及实验操作流程的通知 尊敬的各位用户老师、学生： 为规范平台设备使用预约及实验操作流程，特作以下说明，从即日起开始实施： 设备预约至少提前一天，即在每日下午16:30之前发送预约邮件至aemd@sjtu.edu.cn邮箱中，预约次日的实验。 邮件预约格式规范如下，请各位师生按照本格式预约，以免影响实验安排。 邮件主题：【预约】设备名称+平台账户+预约人姓名 内容： 序号 预约人 姓名 平台账户 设备名称 实验内容 样品数 预约使用时间 联系电话 是否需要 进入净化间 （如需进入，告知几人进入及具体事由） 备注 及其他要求 1 注： 设备实际使用时间由平台按照预约次序顺延安排，安排完毕后将邮件通知预约人，原则上不接受任何加急处理； 如需同时预约多台设备，请按顺序填写，并在备注栏中告知是否需要同时安排； 实验操作如需进入净化间，需在预约时告知人数及具体事由； 磁控溅射及电子束蒸发需告知溅射蒸发材料及厚度； SEM扫描电镜需告知最大放大倍数、预估使用时间； AFM原子力显微镜需告知测试内容、模式； 光刻需告知是否需要套准、全套工艺或仅曝光，正胶、负胶厚度； 干法刻蚀需告知刻蚀材料、刻蚀深度及刻蚀面积比； 湿法刻蚀需告知样品材料、尺寸、前道工艺及所用化学品。 实验当天，请根据安排时间先到西区微电子大楼103室或东区综合实验楼1-201室，填写设备使用登记表（一式三份），凭设备使用登记表联系相关工艺负责老师进行实验。 实验完成后，由工艺老师签核，并检查表格是否填写完整，用户是否签字确认，第一联交由平台存档，第二联工艺老师存档，第三联用户保留。 预约相关负责人及联系方式： 西区预约负责人：沈贇靓老师；联系方式：34207734-8001。 东区预约负责人：蒋为桥老师，联系方式：34206126-6008。 …
AEMD平台应邀参加第六届中国微米纳米技术国际会议 中国微米纳米技术学会（ CHINESE SOCIETY OF MICRO-NANO TECHNOLOGY ，英文缩写为 CSMNT ）10月12日至10月14日在上海嘉定唐朝大酒店召开。CSMNT是全国从事微米/纳米技术的科技工作者和在微米/纳米技术及其他相关领域从事科研、设计、制造、教学和管理等工作的企、事业单位、团体自愿结成并依法登记的社会团体法人，是全国性的非营利性学术团体，是联系广大微米/纳米技术工作者的纽带，是发展我国微米/纳米技术事业的重要社会力量，是中国科学技术协会的组成部分。 而AEMD平台秉承“支持高水平科学研究的服务平台”的发展宗旨和SIIS （服务、互动、创新与满意）运行管理模式，在向交大校内师生开放并为校内学科水平的提高和交叉融合做出积极贡献的同时，也向校外科研单位、公司企业开放，提供6英寸及其以下尺寸的硅基、玻璃基及聚合物基器件与结构的微纳加工服务，以及科研项目与新型产品提供技术支持与研发合作，积极推动我国微纳米技术的产业化进程，服务于社会。AEMD平台应邀参加第六届中国微米纳米技术国际会议。 会议期间，平台常务副主任程秀兰老师应邀开展关于先进微纳图形形成方法与技术培训课程，程老师深入浅出的介绍微纳技术的发展以及现在微纳技术发展现状，深受广大老师学生及企业科研人员的好评。程秀兰老师也借此机会向广大微纳科研高校及机构介绍平台的现有设备及工艺能力，与会的各位老师及学生纷纷对AEMD平台拥有先进的仪器及高水平的科研能力表示赞赏。 图1.程秀兰老师开展培训课程 图2.广大校外科研人员向平台人员咨询工艺 图3. 上海纳腾向平台工程师咨询具体相关工艺
韩国生产技术研究院（KITCH）教授一行来访参观 2015年10月15日，韩国生产技术研究院（Korea Institute of Industrial Technology）的教授Prof. KANG, Kyung Tae、Prof. KANG, Heui Seok以及Prof. Cho, Kwanhyun一行来访参观。AEMD平台常务副主任程秀兰老师接待了来宾。 KITECH是隶属于韩国知识经济部的韩国唯一为中小企业提供技术支持的副部级研究机构，在国内设有6个分院、18个研究中心，与国外20个研究机构合作，在科研项目、产业合作、成果转化等方面与AEMD平台的模式有许多相同之处。程秀兰老师就平台设备及现状作了介绍。KITCH教授一行对AEMD平台的快速发展表示赞赏。 KITECH成立于1989年，成立20多年来累计研究开发工业技术项目4800个，市场转化率超过70%，在美国、中国、印尼、越南等国家设有海外办事处。
2015年8月31日下午，吴旦副校长带领211/985办公室，资产管理与实验室处、校后勤集团相关领导调研视察了AEMD平台西区与东区。AEMD平台主任苏翼凯老师及平台常务副主任程秀兰老师全程陪同参观，并向各位领导汇报了平台净化室状况、工艺设备配置与技术能力、以及平台目前的运行状况。在参观西区净化室的过程中，吴校长及各部处领导对净化室内部的安全设施配置情况及管理规范性等方面提出了改进建议。在得知平台用户进入净化室之前都需要经过专门的安全培训及考核，并且在净化室内醒目的通道位置安置有急救箱的情况后，吴校长对平台对于安全方面考虑的举措给予了肯定。 在视察后的座谈会上，吴校长对平台自建设与运行以来所做出的努力和取得的成果给予了充分的肯定，同时对平台未来的发展也提出了殷切的希望。吴校长指出平台发展中压力与激励并存，希望平台在继续为我校高水平科研提供更好的科研支撑服务的前提下，继续不断提高技术水平与能力，扩大影响力，创出平台自己的品牌。